合肥致真精密设备有限公司程厚义获国家专利权
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龙图腾网获悉合肥致真精密设备有限公司申请的专利一种集成测量装置的磁控溅射镀膜设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223620467U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-02发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202423245197.3，技术领域涉及：C23C14/54；该实用新型一种集成测量装置的磁控溅射镀膜设备是由程厚义;丁庆;杜寅昌;李玉婷设计研发完成，并于2024-12-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种集成测量装置的磁控溅射镀膜设备在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种集成测量装置的磁控溅射镀膜设备，具体涉及薄膜沉积技术领域，包括工艺主腔室、进样室、真空传输腔、前支撑架、后支撑架、晶圆传送装置、应力测量仪、膜厚测量仪和控制系统，工艺主腔室和进样室均固定安装在前支撑架的顶部，工艺主腔室和真空传输腔分别固定安装在进样室的两侧，应力测量仪、膜厚测量仪和控制系统均固定安装在后支撑架的内壁，晶圆传送装置固定安装在后支撑架的内部。本实用新型公开的设备，可以实现8寸及以下晶圆的多靶材共溅射成膜和离子源辅助溅射成膜；可以实现晶圆的自动传送，镀膜设备和测量装置通过预设的系统控制，实现成膜前后的应力测量，膜层厚度测量和膜层应力的计算。
本实用新型一种集成测量装置的磁控溅射镀膜设备在权利要求书中公布了：1.一种集成测量装置的磁控溅射镀膜设备，其特征在于：所述磁控溅射镀膜设备包括：工艺主腔室1、进样室2、真空传输腔3、前支撑架4、后支撑架5、晶圆传送装置6、应力测量仪7、膜厚测量仪8和控制系统9， 所述工艺主腔室1和进样室2均固定安装在前支撑架4的顶部，所述工艺主腔室1和真空传输腔3分别固定安装在进样室2的两侧，所述真空传输腔3通过密封胶圈与进样室2固定连接，所述后支撑架5的一端与所述前支撑架4靠近进样室2处固定连接，所述应力测量仪7和膜厚测量仪8均固定安装在后支撑架5顶部的内壁上，所述控制系统9固定安装在后支撑架5底部的内壁上，所述晶圆传送装置6固定安装在后支撑架5的内部，所述晶圆传送装置6的一端靠近进样室2。
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