中晟半导体(上海)有限公司李瑞获国家专利权
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龙图腾网获悉中晟半导体(上海)有限公司申请的专利反应腔及化学气相沉积设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223620469U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-02发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202423109157.6，技术领域涉及：C23C16/44；该实用新型反应腔及化学气相沉积设备是由李瑞;许燚南设计研发完成，并于2024-12-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本反应腔及化学气相沉积设备在说明书摘要公布了：本申请提供了一种反应腔及化学气相沉积设备，该反应腔包括底板、侧板、加热机构以及环形凸起；侧板沿底板边缘围绕底板，形成反应腔室；反应腔室具有供气体流入的开口，开口的朝向背向底板；加热机构于反应腔室之内与底板连接；侧板内设置有冷却液通道；冷却液通道的延伸方向包括：从侧板靠近底板的底端向侧板靠近反应腔室的开口的顶端的延伸方向；环形凸起设置于侧板靠近反应腔室的开口的侧板上端；环形凸起位于冷却液通道靠近反应腔室的一侧，并向反应腔室的内部延伸。该反应腔通过在侧板上端设置环形凸起，增加了侧板上端所对应冷却液通道的部分的壁厚，进而一定程度上避免了反应腔室内壁因过大的温差而发生工艺反应附着物剥离脱落。
本实用新型反应腔及化学气相沉积设备在权利要求书中公布了：1.一种反应腔，其特征在于，包括底板、侧板、加热机构以及环形凸起； 所述侧板沿所述底板边缘围绕所述底板，形成反应腔室； 所述反应腔室具有供气体流入的开口，所述开口的朝向背向所述底板； 所述加热机构于所述反应腔室之内与所述底板连接； 所述侧板内设置有冷却液通道；所述冷却液通道的延伸方向包括：从所述侧板靠近所述底板的底端向所述侧板靠近所述反应腔室的开口的顶端的延伸方向； 所述环形凸起设置于所述侧板靠近所述反应腔室的开口的侧板上端；所述环形凸起位于所述冷却液通道靠近所述反应腔室的一侧，并向所述反应腔室的内部延伸。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人中晟半导体(上海)有限公司，其通讯地址为：201306 上海市浦东新区(上海)自由贸易试验区临港新片区妙香路2189号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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