台湾积体电路制造股份有限公司廖啟宏获国家专利权
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龙图腾网获悉台湾积体电路制造股份有限公司申请的专利微影曝光系统及用于该系统的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114755892B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110024259.X，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权微影曝光系统及用于该系统的方法是由廖啟宏;施柏铭设计研发完成，并于2021-01-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本微影曝光系统及用于该系统的方法在说明书摘要公布了：一种微影曝光系统及用于该系统的方法，用于微影曝光系统的方法包括在一曝光设备的曝光腔室的内壁形成光触媒材料。传送一集成电路晶圆进入曝光腔室。涂布光阻液于集成电路晶圆上。对光阻液执行曝光制程。通过光触媒材料催化光阻液的蒸气产生反应。
本发明授权微影曝光系统及用于该系统的方法在权利要求书中公布了：1.一种用于微影曝光系统的方法，其特征在于，包括： 传送一集成电路晶圆进入一曝光腔室； 涂布一光阻液于该集成电路晶圆上，其中一部分的该光阻液会挥发产生一蒸气； 对该光阻液执行一曝光制程，并通过一光触媒材料催化该蒸气产生反应；以及 在该光触媒材料上形成多个孔洞。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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