LG伊诺特有限公司白智钦获国家专利权
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龙图腾网获悉LG伊诺特有限公司申请的专利沉积掩模获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114883514B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210427718.3，技术领域涉及：H10K71/16；该发明授权沉积掩模是由白智钦;金海植;曹荣得;李相侑;曹守铉;孙晓源设计研发完成，并于2018-08-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本沉积掩模在说明书摘要公布了：本发明涉及一种沉积掩模，该沉积掩模包括：金属板，金属板用于有机发光二极管像素图案的有机材料沉积；多个小表面孔，小表面孔形成在金属板的一个表面上；多个大表面孔，大表面孔形成在与金属板的一个表面相反的另一表面上；以及多个通孔，通孔将小表面孔和大表面孔连通；其中，小表面孔的在金属板的纵向方向上的横截面中的高度与小表面孔的在金属板的侧向方向上的横截面中的高度不同。
本发明授权沉积掩模在权利要求书中公布了：1.一种沉积掩模，包括： 金属板，所述金属板用于有机发光二极管像素图案的有机材料沉积； 多个小表面孔，所述小表面孔形成在所述金属板的一个表面上； 多个大表面孔，所述大表面孔形成在与所述金属板的所述一个表面相反的另一表面上；以及 多个通孔，所述通孔将所述小表面孔和所述大表面孔连通； 其中，所述小表面孔的在所述金属板的纵向方向上与所述小表面孔的中心部分交叉的横截面中的高度小于所述小表面孔的在所述金属板的与所述纵向方向垂直的侧向方向上与所述小表面孔的中心部分交叉的横截面中的高度。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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