上海华力集成电路制造有限公司曹文杰获国家专利权
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龙图腾网获悉上海华力集成电路制造有限公司申请的专利离子注入机电流剂量计挡板的清洁方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115458381B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211050948.9，技术领域涉及：H01J37/317；该发明授权离子注入机电流剂量计挡板的清洁方法是由曹文杰;沈耀庭设计研发完成，并于2022-08-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本离子注入机电流剂量计挡板的清洁方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种离子注入机电流剂量计挡板的清洁方法，确定离子注入过程中的在前离子源种类和待转换离子源种类；施加电场，根据在前离子源种类，向离子注入机中通入处理气体，使得第一处理气体电离形成第一处理离子束，第一处理离子束的宽度为第一标记尺寸，对电流剂量计挡板进行第一阶段清洁处理；根据待转换离子源种类，向离子注入机中通入第二处理气体，使得第二处理气体电离形成第二处理离子束，第二处理离子束的宽度为大于第一标记尺寸的第二标记尺寸，对电流剂量计挡板进行第二阶段清洁处理。本发明通过对电流剂量计挡板进行老化工艺预清理后，可以观察到电流剂量计挡板的洁净度有明显改善，离子注入机台整体离线检测离子状况得以明显降低。
本发明授权离子注入机电流剂量计挡板的清洁方法在权利要求书中公布了：1.一种离子注入机电流剂量计挡板的清洁方法，其特征在于，至少包括： 确定离子注入过程中的在前离子源种类和待转换离子源种类； 施加电场，根据所述在前离子源种类，向离子注入机中通入第一处理气体，使得所述第一处理气体电离形成第一处理离子束，所述第一处理离子束的宽度为第一标记尺寸，其中所述第一标记尺寸小于等于120mm； 使得所述第一处理离子束对所述离子注入机的工艺腔中的电流剂量计挡板进行第一阶段清洁处理； 根据所述待转换离子源种类，向所述离子注入机中通入第二处理气体，使得所述第二处理气体电离形成第二处理离子束，所述第二处理离子束的宽度为大于所述第一标记尺寸的第二标记尺寸，其中所述第二标记尺寸为145至155mm； 使得所述第二处理离子束照射所述电流剂量计挡板，对所述电流剂量计挡板进行第二阶段清洁处理。
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