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中国科学院电工研究所张贺获国家专利权

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龙图腾网获悉中国科学院电工研究所申请的专利一种光波导层及其制备方法和应用获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115524792B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-05发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211253801.X,技术领域涉及:G02B6/132;该发明授权一种光波导层及其制备方法和应用是由张贺;屈飞;平奕晨;韩立设计研发完成,并于2022-10-13向国家知识产权局提交的专利申请。

一种光波导层及其制备方法和应用在说明书摘要公布了:本发明提供了一种光波导层及其制备方法和应用,属于滤波器件技术领域。本发明通过原子层沉积方法将薄膜沉积在光子晶体光栅衬底上作为光波导层,通过调控热处理的温度可以获得具有不同折射率的光波导层薄膜,利用该光波导层薄膜制成的导模共振滤波器能在共振波段259~1500nm范围内共振波段产生接近100%的高反射率,共振反射发生的波段对光栅区域填充材料的折射率非常敏感,通过调制光波导层薄膜的厚度和折射率,实现对导模共振滤波器装置不同范围共振波段的精准控制,制备高效的导模共振滤波器,实现器件上的应用。

本发明授权一种光波导层及其制备方法和应用在权利要求书中公布了:1.一种光波导层的制备方法,其特征在于,包括以下步骤: 在含氧条件下,将滤波器用前驱体源在衬底上进行原子层沉积,得到沉积薄膜; 将所述沉积薄膜进行热处理,得到光波导层; 所述滤波器用前驱体源包括四二胺甲基钛、双叔丁胺基硅烷、三甲基镓或砷烷; 所述衬底为表面具有周期性图案的基板;所述周期性图案通过纳米压印技术在基板上制备得到;所述基板的材料为石英玻璃、硅、阳极氧化铝或有机物; 所述原子层沉积的条件包括:沉积时间为20~200h;前驱体源的脉冲时间为0.015~0.05s,氧源的脉冲时间为0.02~0.05s;惰性气体流量为5~50sccm,沉积腔的气压为20~100Pa;沉积腔的真空度<0.1Pa;所述衬底的温度为50~200℃; 所述沉积薄膜的厚度为50~1000nm; 所述热处理的温度为150~450℃,时间为20~60h; 所述光波导层应用于导模共振滤波器中。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人中国科学院电工研究所,其通讯地址为:100190 北京市海淀区中关村北二条6号中科院电工所;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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