株式会社日立高新技术野坂峻大获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社日立高新技术申请的专利等离子处理装置、数据解析装置以及半导体装置制造系统获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116157901B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-05发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202180017687.8,技术领域涉及:H01L21/3065;该发明授权等离子处理装置、数据解析装置以及半导体装置制造系统是由野坂峻大;白石大辅;鹿子岛昭设计研发完成,并于2021-07-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本等离子处理装置、数据解析装置以及半导体装置制造系统在说明书摘要公布了:提供能根据峰值的形状的特征分配适当的元素并能进行高精度的波长辨识的等离子处理装置、数据解析装置以及半导体装置制造系统。等离子处理装置具备:处理室,其对样品进行等离子处理;高频电源,其供给用于生成等离子的高频电力;和样品台,其载置所述样品,该等离子处理装置还具备:分析部,其根据通过比较作为被监视的等离子的发光的光谱波形的第一光谱波形和第二光谱波形而求得的所述第一光谱波形与所述第二光谱波形的一致度,来确定所监视的所述等离子中的元素或分子,所述第二光谱波形是与所述元素或所述分子对应且乘以了权重系数的光谱波形。
本发明授权等离子处理装置、数据解析装置以及半导体装置制造系统在权利要求书中公布了:1.一种等离子处理装置,具备: 处理室,其对样品进行等离子处理; 高频电源,其供给用于生成等离子的高频电力;和 样品台,其载置所述样品, 所述等离子处理装置的特征在于还具备: 分析部,其根据通过比较作为被监视的等离子的发光的光谱波形的第一光谱波形和第二光谱波形而求得的所述第一光谱波形与所述第二光谱波形的一致度,来确定所监视的所述等离子中的元素或分子, 所述第二光谱波形是与所述元素或所述分子对应且乘以了权重系数的光谱波形。
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