苏州大学谭源获国家专利权
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龙图腾网获悉苏州大学申请的专利有机单晶C8-BTBT的制备方法、有机场效应晶体管及集成电路获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116163022B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310178498.X，技术领域涉及：C30B29/54；该发明授权有机单晶C8-BTBT的制备方法、有机场效应晶体管及集成电路是由谭源;任晓斌;邓巍;张秀娟设计研发完成，并于2023-02-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本有机单晶C8-BTBT的制备方法、有机场效应晶体管及集成电路在说明书摘要公布了：本发明提供了一种有机单晶C8‑BTBT的制备方法。该制备方法包括如下步骤：利用光刻法制备获得图案化水滴结构，所述图案化水滴结构由下至上包括硅基底和形成在硅基底上的非结晶高透明的氟化聚合物，所述图案化水滴结构的表面具有多个阵列式排布的水滴状凹部，所述水滴状凹部暴露出所述硅基底；将C8‑BTBT溶于由良溶剂和不良溶剂混合而成的混合溶剂体系中，得到C8‑BTBT的混合溶液；利用喷墨打印方法将所述混合溶液打印到所述图案化水滴结构中，以在所述水滴状凹部的尖端优先成核，随后从所述尖端开始生长，并沿单一取向自组装生长满整个所述水滴状凹部，以得到有机单晶C8‑BTBT。本发明方案可以得到单一取向的高质量的有机单机C8‑BTBT。
本发明授权有机单晶C8-BTBT的制备方法、有机场效应晶体管及集成电路在权利要求书中公布了：1.有机单晶C8-BTBT的制备方法，其特征在于，包括如下步骤： 利用光刻法制备获得图案化水滴结构，所述图案化水滴结构由下至上包括硅基底和形成在硅基底上的非结晶高透明的氟化聚合物；所述氟化聚合物为Cytop氟化聚合物或聚四氟乙烯；所述图案化水滴结构的表面具有多个阵列式排布的水滴状凹部，所述水滴状凹部暴露出所述硅基底，以使所述水滴状凹部的底面形成亲水区，并使所述水滴状凹部的内周壁形成疏水区； 将C8-BTBT溶于由良溶剂和不良溶剂混合而成的混合溶剂体系中，得到C8-BTBT的混合溶液； 利用喷墨打印方法将所述混合溶液打印到所述图案化水滴结构中，以在所述水滴状凹部的尖端优先成核，随后从所述尖端开始生长，并沿单一取向自组装生长满整个所述水滴状凹部，以得到有机单晶C8-BTBT。
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