南开大学匡登峰获国家专利权
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龙图腾网获悉南开大学申请的专利一种高度变化的共焦、匀光的微光学器件获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116430596B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-05发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310121651.5,技术领域涉及:G02B27/09;该发明授权一种高度变化的共焦、匀光的微光学器件是由匡登峰;隋新骐设计研发完成,并于2023-02-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高度变化的共焦、匀光的微光学器件在说明书摘要公布了:一种高度变化的共焦、匀光的微光学器件。该光学器件由变高的轴对称线性周期微直三棱柱结构构成,将中心微直三棱柱的工作距离定为器件工作距离,经过对线性周期微直三棱柱结构的工作距离和其高度关系的求解,建立高度变化通式后,通过改变线性周期微三棱柱结构的高度,当入射光垂直于器件底面入射并通过该器件之后,可达到共焦效果,且能量明显集中,最大强度随结构的扩增而成倍提高。本发明在聚焦微纳光学器件设计、光束整形和高深宽比微槽测量技术领域具有重要的应用价值和应用前景。并且其产生的X波在光学信息处理和传输以及触摸屏的检测领域具有很好的应用前景。
本发明授权一种高度变化的共焦、匀光的微光学器件在权利要求书中公布了:1.一种通过改变材质为光学玻璃的轴对称线性周期微直三棱柱结构的高度,可达到共焦效果,且能量明显集中,最大强度随k值的增大而成倍增加的共焦、匀光的微光学器件,其特征在于该光学器件材质为光学玻璃,由变高的轴对称线性周期微直三棱柱结构构成,轴对称线性周期微直三棱柱结构用于将入射的垂直于各微直三棱柱底面的光在工作距离内聚焦,集中能量,提高最大强度;器件为变高的轴对称线性周期微直三棱柱结构,中心微直三棱柱为等腰结构,周期为2Λ,两侧微直三棱柱镜面对称放置,周期均为Λ,高度为hk,k=1,2,3,...; 其中,中心微直三棱柱的k记为1,h1由斯涅尔定律和衍射元件设计原理公式:来固定,Λ为周期,λ为入射波长,n为微直三棱柱折射率; Λ和hk大小均在微米量级;结构中高度hk所对最小锐角为αk,光线通过第k个结构的折射角为γk,每个微直三棱柱最外侧折射光线与三棱柱底面夹为βk,器件最大工作距离为Zmax固定为中心微直三棱柱的工作距离,由下式确定: Zmax=Λ·tanβ1 其中,nsinα1=n′sinγ1,n为微直三棱柱折射率,n′为空气折射率; 各结构等高时,即hk=h1均相等时,入射光垂直于器件底面入射并通过该器件后,因两侧对称的三棱柱高度相同,折射面倾斜程度也相同,结构线性扩增,器件工作距离变大,两侧k值相同的对称微直三棱柱结构的折射光线汇聚,在工作距离内产生连续性焦斑,有匀光效果,且随着结构中微直三棱柱个数增加,焦斑连续性增强; 各结构高度不等时,当入射光垂直于器件底面入射并通过该器件之后,通过控制两侧k值相同的微直三棱柱结构的工作距离,使其与中心微直三棱柱的工作距离相同,从而将各焦点汇聚在一点,达到共焦效果,且能量明显集中,随器件结构k值的线性增加共焦效果越好,强度成倍增大; 所述的高度变化的共焦、匀光的微光学器件,高度变化通式如下: hk=Λ·tanαk Zmax=Λ·tanβk γk=arcsinnsinαk 此设计方法通过建立微光学元件的设计通式,改变器件中结构高度后,变高器件将此前等高结构产生的线性离散的焦点汇聚,各结构工作距离全部截止于中心微直三棱柱的工作距离内,可控制光线汇聚和器件整体工作距离。
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