株式会社斯库林集团仲村武瑠获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社斯库林集团申请的专利参数优化方法、记录介质和基板处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116504670B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310075763.1，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权参数优化方法、记录介质和基板处理装置是由仲村武瑠;安陪裕滋设计研发完成，并于2023-01-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本参数优化方法、记录介质和基板处理装置在说明书摘要公布了：本发明的课题是提供一种能够在喷出处理液的装置中适当且有效地实施参数优化的技术。本发明的涂布装置1具备：喷出控制部910，基于包括第一参数和第二参数的多个参数，控制来自喷嘴71的涂布液的喷出；喷出特性测量部911，测量喷嘴71喷出涂布液时的喷出特性；第一优化部915，基于喷出特性通过全局搜索优化第一参数；第二优化部917，基于喷出特性通过局部搜索优化第二参数。第一参数包含将来自喷嘴71的涂布液的喷出速度提高到稳定喷出速度的上升期间所对应的参数V1～V4、T1～T9。第二参数包含喷出速度保持在稳定喷出速度的稳定喷出期间所对应的参数V5。
本发明授权参数优化方法、记录介质和基板处理装置在权利要求书中公布了：1.一种参数优化方法，其是在向基板供给从喷嘴喷出的处理液的基板处理装置中，计算机优化用于控制所述处理液的喷出的参数的参数优化方法，其中， 包含： 工序a，所述计算机通过全局搜索优化第一参数的第一优化工序；以及 工序b，所述计算机通过局部搜索优化第二参数的第二优化工序， 所述第一参数包含将来自所述喷嘴的所述处理液的喷出速度提高到稳定喷出速度的上升期间所对应的参数， 所述第二参数包含所述喷出速度保持在所述稳定喷出速度的稳定喷出期间所对应的参数。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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