湖南戴斯光电有限公司梁小生获国家专利权
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龙图腾网获悉湖南戴斯光电有限公司申请的专利一种低折射率镀膜材料及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116676561B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310593086.2，技术领域涉及：C23C14/10；该发明授权一种低折射率镀膜材料及其制备方法是由梁小生;万一兵;梁楚军;黄洪浜设计研发完成，并于2023-05-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种低折射率镀膜材料及其制备方法在说明书摘要公布了：本申请涉及一种低折射率镀膜材料及其制备方法，涉及光学镀膜材料的领域。镀膜材料包括以下原材料：氟化镁、纳米二氧化硅、氧化铝、氟化钇、氟化钕、氟化镨钕。本申请在镀膜材料中加入了氟化钕、氟化镨钕和氟化钇，氟化钕和氟化镨钕的加入后在镀膜的过程中与氟化镁和纳米二氧化硅等同时蒸发并沉积在基底表面，通过氟化钕和氟化镨钕的共同作用可以抑制氟化镁在沉积过程中的定向生长的问题，进而形成更加均匀的光学膜层，同时提升膜层在基底上的附着效果。氟化钇在镀膜过程中可以形成更加致密的膜层，并且成膜均匀，在提升膜层均匀性的同时增强附着力。另外，氟化钇的加入还可以改善氟化钕和氟化镨钕的吸湿问题，提升镀膜材料的稳定性。
本发明授权一种低折射率镀膜材料及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种低折射率镀膜材料，其特征在于，包括以下重量百分比的原材料：氟化镁65-90%，纳米二氧化硅1-15%，氧化铝1-10%，氟化钇1-5%，氟化钕0.5-5%，氟化镨钕0.1-2%。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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