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龙图腾网获悉中国地质大学(武汉)申请的专利一种高植被覆盖下靶矿区范围预测方法、装置及电子设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116823896B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310750292.X，技术领域涉及：G06V20/17；该发明授权一种高植被覆盖下靶矿区范围预测方法、装置及电子设备是由刘福江;林伟华;郭艳;王勉之;凃怡闻;张鲁玉;张政;刘虹辰;苏军顺;高千凯设计研发完成，并于2023-06-21向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种高植被覆盖下靶矿区范围预测方法、装置及电子设备在说明书摘要公布了：本发明提供了一种高植被覆盖区靶矿区范围预测方法、装置及电子设备，包括：获取高植被覆盖研究区域高光谱数据和激光雷达点云数据，并配准；对点云数据进行点云数据分层；将每一层点云数据制作成各高度区间掩膜；基于各高度区间掩膜对高光谱数据进行空间分层，并提取植被冠层底部高光谱影像；根据异常光谱信息提取受胁迫植被，并制成样本；将所有样本按比例划分为训练集和验证集；基于深度学习DeeplabV3+构建高植被覆盖区下靶矿区范围预测模型；通过训练集和验证集分别进行预测模型的训练和验证；获取目标高植被覆盖区域的高光谱影像，通过训练好的预测模型预测目标高植被覆盖区内的靶矿区范围。本发明能高效精确地实现高植被覆盖下的靶矿区范围预测。

本发明授权一种高植被覆盖下靶矿区范围预测方法、装置及电子设备在权利要求书中公布了：1.一种高植被覆盖区靶矿区范围预测方法，其特征在于，包括以下步骤： 获取高植被覆盖研究区域高光谱数据和激光雷达点云数据，并进行配准； 对获取到的激光雷达点云数据进行点云数据分层； 将每一层点云数据制作成各高度区间掩膜； 基于各高度区间掩膜对高光谱数据进行空间分层，并提取植被冠层底部高光谱影像； 根据异常光谱信息从植被冠层底部高光谱影像中提取受胁迫植被，并制作成样本； 将所有的样本按照预设比例划分为训练集和验证集； 基于深度学习DeeplabV3+构建高植被覆盖区下靶矿区范围预测模型； 通过训练集和验证集分别对高植被覆盖区下靶矿区范围预测模型进行训练和验证，直至获得训练好的预测模型； 获取目标高植被覆盖区域的高光谱影像，通过训练好的预测模型预测目标高植被覆盖区内的靶矿区范围； 根据异常光谱信息从植被冠层底部高光谱影像中提取受胁迫植被，并制作成样本的步骤，包括： 根据异常光谱信息从植被冠层底部高光谱影像中提取受胁迫植被，将提取得到的受胁迫植被冠层底部高光谱影像裁剪为尺寸512×512像素大小的图像，并制作成样本。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人中国地质大学(武汉)，其通讯地址为：430000 湖北省武汉市洪山区鲁磨路388号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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