广州工商学院刘伟慈获国家专利权
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龙图腾网获悉广州工商学院申请的专利一种负微分电导调控的方法及装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117010513B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310561603.8，技术领域涉及：G06N10/40；该发明授权一种负微分电导调控的方法及装置是由刘伟慈设计研发完成，并于2023-05-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种负微分电导调控的方法及装置在说明书摘要公布了：本发明为一种负微分电导调控的方法和装置，包括：获取双模量子光场与双量子点系统耦合的总哈密顿量；对光场与量子点相互作用采用量子化处理；通过正则变换处理所述总哈密顿量中的电子——光子耦合项，通过对电子库和光场的自由度取迹得到系统的约化密度矩阵，运用玻恩‑马尔可夫近似得到主方程；通过所述主方程得到速率和电流方程，求解获得稳态电流表达式；通过所述稳态电流表达式简单调节双模量子态光场与双量子点系统的耦合强度实现负微分电导效应的调控；无需进行介观量子点系统结构的复杂调整，从而降低了构建基于负微分电导效应的器件的复杂性和成本，有利于负微分电导器件的设计实现。
本发明授权一种负微分电导调控的方法及装置在权利要求书中公布了：1.一种负微分电导调控的方法，其特征在于，所述方法包括： 获取双模量子光场与双量子点系统耦合的总哈密顿量；其中，所述双模量子光场与双量子点系统耦合的总哈密顿量包括含左右电极的哈密顿量、双量子点的哈密顿量、双量子点和电极之间的直接隧穿的哈密顿量、双模光场哈密顿量、双量子点和光场之间相互作用的哈密顿量及两个量子点之间的隧穿哈密顿量，对光场与量子点相互作用采用量子化处理； 通过正则变换处理所述总哈密顿量中的电子——光子耦合项，通过对电子库和光场的自由度取迹得到约化密度矩阵，运用玻恩-马尔可夫近似得到主方程； 通过所述主方程得到速率和电流方程，求解获得稳态电流表达式，实现负微分电导效应的调控； 所述主方程为其中εL和εR则为左右两个量子点处的能量；r是压缩参数；D为woL，wLo，woR，wRo表示左右量子点和左右电极之间的隧穿速率；t代表两个量子点之间的隧穿系数； 所述稳态电流表达式为 woL，wLo，woR，wRo表示左右量子点和左右电极之间的隧穿速率，
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