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重庆理工大学解泉华获国家专利权

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龙图腾网获悉重庆理工大学申请的专利用于石质文物表面杀灭微生物并抑制其生长的光催化剂获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN118059912B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-05发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202410209005.9,技术领域涉及:B01J27/24;该发明授权用于石质文物表面杀灭微生物并抑制其生长的光催化剂是由解泉华;陈添露;刘洋;钟年丙;贺媛媛;彭晓玲;肖忠渝;吴磊;赖东;万波;刘扬;刘宇飞设计研发完成,并于2024-02-26向国家知识产权局提交的专利申请。

用于石质文物表面杀灭微生物并抑制其生长的光催化剂在说明书摘要公布了:本发明公开了一种用于石质文物表面杀灭微生物并抑制其生长的光催化剂,所述催化剂为BiVO4TiO2‑Ti2NMXene三元光催化材料;扫描电子显微镜将所述催化材料放大至20倍进行观察,Ti2NMXene为二维层状结构,且TiO2附着在Ti2NMXene表面,BiVO4为球状结构且分散在Ti2NMXene和TiO2的表面与周围。将本发明所述光催化剂涂敷在石质文物表面,不仅可以有效地杀灭石质文物表面微生物并抑制微生物生长,还可以提高石质文物的疏水性能,进而实现对石质文物的有效预防性保护。本发明所述光催化剂制作工艺简单,反应条件温和,成本低廉,适用于大量生产和广泛地应用于石质文物微生物病害预防性保护。

本发明授权用于石质文物表面杀灭微生物并抑制其生长的光催化剂在权利要求书中公布了:1.用于石质文物表面杀灭微生物并抑制其生长的光催化剂,其特征在于,所述催化剂为BiVO4TiO2-Ti2N三元光催化材料;扫描电子显微镜将所述催化材料放大至20倍进行观察,Ti2N为MXene相二维层状结构,且TiO2附着在MXene相的Ti2N表面,BiVO4为球状结构且分散在Ti2N和TiO2的表面与周围; 所述BiVO4TiO2-Ti2N三元光催化材料通过如下步骤制备获得: 将MXene相的Ti2N和TiO2用水溶解并搅拌5~8h,其中,MXene相的Ti2N与TiO2的重量份比例为1:10~20;随后,离心处理并去掉上清液;然后将离心处理后的固体用60~100℃真空干燥10~14h得到TiO2-Ti2N复合材料;然后,将BiVO4和TiO2-Ti2N复合材料加入水中溶解并搅拌6~10h,BiVO4与TiO2-Ti2N的重量份比例为1~3:10;随后,离心处理并去掉上清液,得到的固体在95~110℃真空干燥10~14h得到BiVO4TiO2-Ti2N复合材料; 对TiO2进行如下处理: 将TiO2粉末在450℃条件下煅烧2~4h后再使用。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人重庆理工大学,其通讯地址为:400054 重庆市巴南区李家沱红光大道69号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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