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龙图腾网获悉中国科学院武汉岩土力学研究所申请的专利一种隧洞变形与断错防控隔离结构及施工方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118997781B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411158998.8，技术领域涉及：E21D9/14；该发明授权一种隧洞变形与断错防控隔离结构及施工方法是由赵成伟;周辉;张传庆;杨凡杰;卢景景;胡明明;高阳;涂洪亮;刘忠波;霍铮阳设计研发完成，并于2024-08-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种隧洞变形与断错防控隔离结构及施工方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种隧洞变形与断错防控隔离结构，该隧洞变形与断错防控隔离结构包括隧洞和依次布设在所述隧洞的上、下、左和右侧的顶隔离洞、底隔离洞、左隔离洞和右隔离洞。与现有技术相比，本发明的隧洞变形与断错防控隔离结构具有结构简单，易于施工，效果明显和适应性强等优点。

本发明授权一种隧洞变形与断错防控隔离结构及施工方法在权利要求书中公布了：1.一种隧洞变形与断错防控隔离结构，其特征在于，所述隧洞变形与断错防控隔离结构包括： 隧洞1； 若干个顶隔离洞2，若干个所述顶隔离洞2布设在所述隧洞1的外围正上方； 若干个底隔离洞3，若干个所述底隔离洞3布设在所述隧洞1的外围正下方，若干个所述底隔离洞3和若干个所述顶隔离洞2对称分布； 若干个左隔离洞4，若干个所述左隔离洞4布设在所述隧洞1的外围左侧； 若干个右隔离洞5，若干个所述右隔离洞5布设在所述隧洞1的外围右侧，若干个所述右隔离洞5和若干个所述左隔离洞4对称分布； 其中，每一个所述顶隔离洞2、每一个所述底隔离洞3、每一个所述左隔离洞4和每一个所述右隔离洞5均与所述隧洞1平行；若干个所述顶隔离洞2、所述隧洞1和若干个所述底隔离洞3在同一平面的连线为竖向的直线，若干个所述左隔离洞4、所述隧洞1和若干个所述右隔离洞5在所述同一平面的连线为横向的直线，所述竖向的直线与所述横向的直线相互垂直； 每一个所述顶隔离洞2的直径、每一个所述底隔离洞3的直径、每一个所述左隔离洞4的直径和每一个所述右隔离洞5的直径均与所述隧洞1的直径相同； 所述隧洞1与相邻的一个所述顶隔离洞2、相邻的一个所述底隔离洞3、相邻的一个所述左隔离洞4和相邻的一个所述右隔离洞5的距离均相同且大于3倍的所述隧洞1的直径； 每一个所述顶隔离洞2、每一个所述底隔离洞3、每一个所述左隔离洞4和每一个所述右隔离洞5均呈裸洞状态。

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