南京江原安迪科正电子研究发展有限公司程晚亭获国家专利权
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龙图腾网获悉南京江原安迪科正电子研究发展有限公司申请的专利制备铊固体靶的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119411193B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411587924.6，技术领域涉及：C25D3/54；该发明授权制备铊固体靶的方法是由程晚亭;王枫清;杨凌云;季涛涛;杨大参;罗志刚设计研发完成，并于2024-11-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本制备铊固体靶的方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种制备铊固体靶的电沉积方法，和现有技术相比，在不引入有毒添加剂的情况下，公开了一种新的电沉积液组分，得到的固体靶片形状规则、镀层平整、结构致密，适用于后续加速器打靶。此外，通过氧化实验发现，本发明制得的铊靶氧化速度缓慢，降低了打靶操作前的氧化风险，提高了铊固体靶的使用效率。
本发明授权制备铊固体靶的方法在权利要求书中公布了：1.制备铊固体靶的方法，其特征在于，将铊盐、络合剂、有机酸和硫酸盐溶于水混合后形成的溶液，加入碱溶液调节溶液pH为8～13，制得电沉积液； 将阳极和阴极浸入电沉积液中进行电沉积操作后，阴极表面形成镀层，获得铊固体靶；其中，所述电沉积操作的电压为1～20V，电流密度为3～20mAcm2； 所述铊盐选自硝酸铊、硫酸铊、醋酸铊中的任意一种；所述电沉积液中铊盐浓度为0.008～0.1molL； 所述络合剂选自十二烷基硫酸钠、乙二胺四乙酸、吐温20、吐温80中的任意一种；所述电沉积液中络合剂浓度为0.005～0.02molL； 所述有机酸选自抗坏血酸、酒石酸、柠檬酸、丙二酸、苹果酸中的任意一种；所述电沉积液中有机酸浓度为0.01～0.1molL； 所述硫酸盐选自硫酸铵、硫酸钠、亚硫酸钠中的任意一种；所述电沉积液中硫酸盐浓度为0.01～0.2molL。
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