深圳亿维瑞光科技有限公司王霄鹏获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳亿维瑞光科技有限公司申请的专利校正光场不均匀的关联成像方法及关联成像系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119758370B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411915705.6，技术领域涉及：G01S17/89；该发明授权校正光场不均匀的关联成像方法及关联成像系统是由王霄鹏设计研发完成，并于2024-12-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本校正光场不均匀的关联成像方法及关联成像系统在说明书摘要公布了：本发明适用于关联成像技术领域，提供了一种校正光场不均匀的关联成像方法及关联成像系统，所述方法包括：发射探测光照射向待测目标；接收所述探测光照射所述待测目标后产生的目标光，并探测接收的所述目标光的光强度值；通过调制件对所述探测光或目标光进行调制；根据所述调制件的调制信息和所述目标光的光强度值重构待测目标的像；根据相关特征信息校正所述待测目标的像；本发明根据对探测待测目标前的探测光或发射散斑的预标定信息，校正因发射光光场不均匀造成重构待测目标的像的偏差，提高重构待测目标的像的结果准确性，且没有提升成像算法复杂度，具有广泛的应用场景。
本发明授权校正光场不均匀的关联成像方法及关联成像系统在权利要求书中公布了：1.一种校正光场不均匀的关联成像方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤： 发射探测光照射向待测目标； 接收所述探测光照射所述待测目标后产生的目标光，并探测接收的所述目标光的光强度值； 通过调制件对所述探测光进行调制； 根据所述调制件的调制信息和所述目标光的光强度值重构待测目标的像； 根据相关特征信息校正所述待测目标的像； 其中所述相关特征信息包括：预标定的所述探测光的强度分布信息，或者，预标定的由所述探测光经调制后产生的发射散斑的空间及强度分布信息； 所述方法还包括： 在通过调制件对所述探测光进行调制时，根据所述探测光的强度分布信息，控制所述调制件对所述探测光进行校正，以使所述调制件出射光场均匀的发射散斑； 对所述探测光的调制和校正均是选用数字微镜阵列作为调制件进行的。
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