深圳晶源信息技术有限公司朱瑞泓获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳晶源信息技术有限公司申请的专利光刻仿真模型的误差确定方法、装置、设备、介质及产品获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119987159B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510307461.1，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权光刻仿真模型的误差确定方法、装置、设备、介质及产品是由朱瑞泓;张鸿儒设计研发完成，并于2025-03-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本光刻仿真模型的误差确定方法、装置、设备、介质及产品在说明书摘要公布了：本申请公开了一种光刻仿真模型的误差确定方法、装置、设备、介质及产品，涉及光刻仿真技术领域。该光刻仿真模型的误差确定方法包括：获取目标掩模图案的真实光刻轮廓，以及光刻仿真模型输出的目标掩模图案的仿真光刻轮廓；对真实光刻轮廓与仿真光刻轮廓分别进行离散化，构建第一四叉树；根据第一四叉树，确定各真实离散点到仿真光刻轮廓的最短距离，以及各仿真离散点到真实光刻轮廓的最短距离；将各最短距离，分别存储至与第一四叉树对应的同构索引树中，构建第二四叉树；根据第二四叉树，确定光刻仿真模型的误差。根据本申请，能够提高光刻仿真模型的误差确定效率。
本发明授权光刻仿真模型的误差确定方法、装置、设备、介质及产品在权利要求书中公布了：1.一种光刻仿真模型的误差确定方法，其特征在于，包括： 获取目标掩模图案的真实光刻轮廓，以及光刻仿真模型输出的所述目标掩模图案的仿真光刻轮廓； 对所述真实光刻轮廓与所述仿真光刻轮廓分别进行离散化，构建第一四叉树，所述第一四叉树的父节点为所述真实光刻轮廓与所述仿真光刻轮廓中相匹配的轮廓区域，所述第一四叉树的子节点为所述真实光刻轮廓上真实离散点的坐标以及所述仿真光刻轮廓上仿真离散点的坐标； 根据所述第一四叉树，确定各所述真实离散点到所述仿真光刻轮廓的最短距离，以及各所述仿真离散点到所述真实光刻轮廓的最短距离； 将各所述最短距离，分别存储至与所述第一四叉树对应的同构索引树中，构建第二四叉树，所述第二四叉树的父节点为所述相匹配的轮廓区域，所述第二四叉树的子节点为各所述真实离散点到所述仿真光刻轮廓的最短距离，以及各所述仿真离散点到所述真实光刻轮廓的最短距离； 根据所述第二四叉树，确定所述光刻仿真模型的误差。
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