中国科学院微电子研究所姚振杰获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学院微电子研究所申请的专利一种刻蚀预测方法、装置、设备及介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120072076B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311616815.8，技术领域涉及：G16C20/10；该发明授权一种刻蚀预测方法、装置、设备及介质是由姚振杰;秦凤玲;呼子义;来盼盼;王文瑞;汪令飞;邵花;李志强;李俊杰;陈睿;李泠设计研发完成，并于2023-11-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种刻蚀预测方法、装置、设备及介质在说明书摘要公布了：本申请提供一种刻蚀预测方法、装置、设备及介质，可以获取刻蚀工艺参数和在刻蚀工艺参数下刻蚀得到的多个第一刻蚀轮廓数据；将刻蚀工艺参数和多个第一刻蚀轮廓数据输入至刻蚀轮廓预测模型中，输出在第二时刻的第二刻蚀轮廓数据；第二时刻位于第一时刻之后；刻蚀轮廓预测模型基于长短期记忆网络和级联组合层确定，是一种级联循环神经网络，能够降低传统刻蚀模型中基于复杂物理机制建模的大量计算，减少传统刻蚀模型校准中的重复性人工试错工作，减少建模时间，提高仿真效率，此外，提高了对刻蚀轮廓数据的预测准确性。
本发明授权一种刻蚀预测方法、装置、设备及介质在权利要求书中公布了：1.一种刻蚀预测方法，其特征在于，包括： 获取刻蚀工艺参数和在所述刻蚀工艺参数下刻蚀得到的多个第一刻蚀轮廓数据，每个所述第一刻蚀轮廓数据与每个第一时刻对应； 将所述刻蚀工艺参数和多个所述第一刻蚀轮廓数据输入至刻蚀轮廓预测模型中，输出在第二时刻的第二刻蚀轮廓数据；所述第二时刻位于所述第一时刻之后；所述刻蚀轮廓预测模型基于长短期记忆网络和级联组合层确定；所述第二时刻下的刻蚀工艺参数与所述第一时刻下的刻蚀工艺参数相同；所述级联组合层包括多个拼接层和多个全连接层，所述拼接层用于将刻蚀轮廓数据和刻蚀工艺参数拼接起来，所述全连接层用于对拼接之后形成的数据进行全连接处理。
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