杭州众硅电子科技有限公司杨哲获国家专利权
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龙图腾网获悉杭州众硅电子科技有限公司申请的专利一种化学机械抛光在线监测方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120551941B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511065379.9，技术领域涉及：B24B37/005；该发明授权一种化学机械抛光在线监测方法是由杨哲;周远鹏;戴伶佳;喻康设计研发完成，并于2025-07-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种化学机械抛光在线监测方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种化学机械抛光在线监测方法，属于化学机械抛光技术领域，包括步骤：将晶圆划分为同心设置的至少三个区域，面积大致相同；在抛光盘上设置第一、第二检测单元；抛光头承载晶圆后置于抛光盘，在抛光盘自身周向旋转的同时，相对抛光盘发生周向转动，以实现晶圆与抛光盘上抛光垫的机械抛光作用；第一检测单元监测到晶圆表面的第一轨迹信息，其覆盖晶圆整个直径方向的区域，且经过晶圆圆心；第二检测单元监测到晶圆表面的第二轨迹信息，其覆盖晶圆的中间区域、边缘区域；将第一轨迹信息和第二轨迹信息整理为表征晶圆形貌的光谱信号数据组；调整抛光工艺参数。本发明利用两个独立的检测单元检测晶圆全局形貌，有利于晶圆边缘的稳定抛光。
本发明授权一种化学机械抛光在线监测方法在权利要求书中公布了：1.一种化学机械抛光在线监测方法，其特征在于，包括以下步骤： 将晶圆划分为内部区域、中间区域、边缘区域至少三个区域，其同心设置，且面积大致相同，内部区域的径向宽度大于中间区域的径向宽度，中间区域的径向宽度大于边缘区域的径向宽度； 在抛光盘上设置第一检测单元和第二检测单元，抛光盘自身周向旋转； 抛光头承载晶圆后置于抛光盘，在自身周向旋转的同时，相对抛光盘发生周向转动，以实现晶圆与抛光盘上抛光垫的机械抛光作用； 第一检测单元监测到晶圆表面的第一轨迹信息，该第一轨迹覆盖晶圆整个直径方向的内部区域、中间区域、边缘区域，且经过晶圆圆心； 第二检测单元监测到晶圆表面的第二轨迹信息，该第二轨迹覆盖晶圆的中间区域、边缘区域； 将第一轨迹信息和第二轨迹信息整理为表征晶圆形貌的光谱信号数据组； 根据获得的光谱信号数据组调整抛光工艺参数。
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