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龙图腾网获悉广东金湾高景太阳能科技有限公司;高景太阳能股份有限公司申请的专利槽式清洗装置的控制方法、控制装置、存储介质及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120734029B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511152475.7，技术领域涉及：B08B3/04；该发明授权槽式清洗装置的控制方法、控制装置、存储介质及系统是由周禹;全晓冬;毕喜行;付明全;徐志群设计研发完成，并于2025-08-18向国家知识产权局提交的专利申请。

本槽式清洗装置的控制方法、控制装置、存储介质及系统在说明书摘要公布了：本申请提供了一种槽式清洗装置的控制方法、控制装置、存储介质及系统，该方法应用于槽式清洗装置，该方法包括：获取待清洗硅片的杂质占比总量和占比阈值，杂质占比总量为多个待清洗硅片的杂质占比之和，占比阈值为清洗槽中的清洗液允许溶解的杂质的面积的最大值；确定杂质占比总量与占比阈值的大小关系；在杂质占比总量小于等于占比阈值的情况下，确定换液周期为预定时长，换液周期为相邻的两次更换各清洗槽的清洗液的时间差；在杂质占比总量大于占比阈值的情况下，根据预定时长、杂质占比总量以及占比阈值，计算换液周期，换液周期小于预定时长；根据换液周期控制槽式清洗装置。该方法解决了现有技术中槽式清洗装置清洗效果不理想的问题。

本发明授权槽式清洗装置的控制方法、控制装置、存储介质及系统在权利要求书中公布了：1.一种槽式清洗装置的控制方法，其特征在于，所述方法应用于槽式清洗装置，所述槽式清洗装置包括多个清洗槽，所述方法包括： 获取待清洗硅片的杂质占比总量和占比阈值，所述杂质占比总量为多个所述待清洗硅片的杂质占比之和，所述占比阈值为所述清洗槽中的清洗液允许溶解的所述杂质的面积的最大值； 确定所述杂质占比总量与所述占比阈值的大小关系； 在所述杂质占比总量小于等于所述占比阈值的情况下，确定换液周期为预定时长，其中，所述换液周期为相邻的两次更换各所述清洗槽的清洗液的时间差，所述预定时长为11.5~12.5h； 在所述杂质占比总量大于所述占比阈值的情况下，根据所述预定时长、所述杂质占比总量以及所述占比阈值，计算所述换液周期，其中，所述换液周期小于所述预定时长； 根据所述换液周期控制所述槽式清洗装置，以更换所述清洗槽中的所述清洗液， 获取待清洗硅片的杂质占比总量，包括： 获取排片速度，其中，所述排片速度为一个所述待清洗硅片在所述槽式清洗装置中一个生产线的清洗时间，所述排片速度的单位为秒片； 根据公式，计算所述待清洗硅片的总量，其中，为所述预定时长，为所述排片速度； 获取各所述待清洗硅片的杂质面积和各所述待清洗硅片的表面积，所述表面积为所述待清洗硅片的一侧表面的面积，所述杂质面积与所述表面积一一对应； 分别计算所述杂质面积与所述表面积的比值，得到多个所述杂质占比； 根据公式，计算所述杂质占比总量，其中，为第个所述待清洗硅片的所述杂质占比， 根据所述换液周期控制所述槽式清洗装置，以更换所述清洗槽中的所述清洗液，包括： 第一控制步骤，控制所述待清洗硅片进入第一清洗槽进行清洗； 第二控制步骤，控制所述第一清洗槽排出清洗液； 第三控制步骤，控制所述待清洗硅片进入第二清洗槽进行清洗，并控制所述第一清洗槽进入清洗液，其中，所述第二清洗槽与所述第一清洗槽相邻，并且所述第二清洗槽为所述第一清洗槽的下一个所述清洗槽； 重复步骤，依次重复所述第二控制步骤和所述第三控制步骤至少一次，并在重复的过程中，将所述第二控制步骤中的所述第一清洗槽更新为上一次重复过程中的所述第二控制步骤中的所述第二清洗槽，直到所述第一清洗槽为多个所述清洗槽中的最后一个所述清洗槽。

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