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龙图腾网获悉广州市艾佛光通科技有限公司申请的专利一种厚金属湿法刻蚀工艺改善方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120784160B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511298372.1，技术领域涉及：H01L21/3213；该发明授权一种厚金属湿法刻蚀工艺改善方法是由李国强;衣新燕;陈盼林设计研发完成，并于2025-09-11向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种厚金属湿法刻蚀工艺改善方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种厚金属湿法刻蚀工艺改善方法，涉及湿法刻蚀技术领域。该方法包括步骤：对覆盖光刻胶膜层后的待刻蚀金属膜层进行一次湿法刻蚀，并持续监测被刻蚀部位侧壁的腐蚀宽度；当腐蚀宽度大于预设值时，终止本次湿法刻蚀；对完成本次湿法刻蚀后的待刻蚀金属膜层进行加热，以使光刻胶膜层自然坍塌并覆盖保护被刻蚀部位的侧壁；待光刻胶膜层重新定型后，循环执行上述步骤，直至完成全部刻蚀，得到完成刻蚀的金属膜层。本发明的方法旨在解决厚金属湿法刻蚀因金属膜厚度增加而变得难以控制的问题，能够确保在厚金属膜层的刻蚀过程中，侧壁腐蚀可控，避免侧壁过腐蚀，从而保证所需图形的完整性，避免形貌失真。

本发明授权一种厚金属湿法刻蚀工艺改善方法在权利要求书中公布了：1.一种厚金属湿法刻蚀工艺改善方法，其特征在于，包括以下步骤： S1.在待刻蚀金属膜层表面的预设位置覆盖一层光刻胶膜层，所述光刻胶膜层的厚度为所述待刻蚀金属膜层厚度的至少两倍； S2.对覆盖所述光刻胶膜层后的待刻蚀金属膜层进行一次湿法刻蚀，并持续监测所述待刻蚀金属膜层中被刻蚀部位侧壁的腐蚀宽度； S3.当所述腐蚀宽度大于预设值时，终止本次湿法刻蚀并对所述待刻蚀金属膜层进行冲洗和甩干处理； S4.对完成本次湿法刻蚀后的待刻蚀金属膜层进行加热，以使所述光刻胶膜层具有流动性，且在所述光刻胶膜层自然坍塌并覆盖保护所述待刻蚀金属膜层中被刻蚀部位的侧壁后，停止加热； S5.待所述光刻胶膜层重新定型后，返回执行步骤S2，直至所述待刻蚀金属膜层中所有被刻蚀部位全部完成刻蚀，得到完成刻蚀的金属膜层； 步骤S2包括采用光学检测方法或使用电子显微镜持续监测所述待刻蚀金属膜层中被刻蚀部位侧壁的腐蚀宽度，其具体步骤包括： S21.向被刻蚀部位侧壁区域发射探测光束； S22.接收被刻蚀部位侧壁区域反射的第一探测光束，并获取所述第一探测光束的光谱数据； S23.根据所述光谱数据，通过分析所述光谱数据中特定波长范围内的光强度变化或光谱峰谷位置偏移，确定所述腐蚀宽度； 所述待刻蚀金属膜层的厚度大于或等于3.5μm。

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