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龙图腾网获悉艾瑞森表面技术(苏州)股份有限公司申请的专利一种磁控溅射系统及其镀膜方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120796931B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511284672.4，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权一种磁控溅射系统及其镀膜方法是由毛昌海;张光齐;帅小锋设计研发完成，并于2025-09-10向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种磁控溅射系统及其镀膜方法在说明书摘要公布了：本申请涉及磁控溅射系统及其镀膜方法，系统包括设置于镀膜室内的一对孪生硅靶材及铝靶材，所述铝靶材位于所述孪生硅靶材所在水平线的正中间，所述孪生硅靶材与中频电源电连接，所述铝靶材与直流电源电连接。本申请的结构设计，一方面能能够扩大均匀沉积范围，降低宽幅工件沉积差异，确保全表面绝缘一致，另一方面铝靶实现铝元素均匀掺杂，稳定控制含量，既改善涂层韧性和结合力，又避免影响绝缘，显著提升非导电涂层的综合性能。

本发明授权一种磁控溅射系统及其镀膜方法在权利要求书中公布了：1.一种磁控溅射系统的镀膜方法，其特征在于，磁控溅射系统包括设置于镀膜室内的一对孪生硅靶材及铝靶材，所述铝靶材位于所述孪生硅靶材所在水平线的正中间，所述孪生硅靶材与中频电源电连接，所述铝靶材与直流电源电连接；镀膜方法包括如下步骤： S1、初始参数设定与第一阶段调整：开启中频电源，控制孪生硅靶材的第一输入功率为第一预设值，开启直流电源，控制铝靶材的第二输入功率按照第一预设调整规则以第一初始值为基础进行阶段性调整； 在所述第二输入功率调整过程中，实时监测或阶段性检测待镀膜件表面形成的薄膜的色差值和电阻值：当某一阶段中，薄膜的色差值和电阻值达到预设范围时，记录此一轮迭代中对应的孪生硅靶材的第一输入功率和铝靶材的第二输入功率，作为目标工艺参数；若只有电阻值达到预设范围，则执行下述步骤； S2、多轮迭代优化：根据步骤S1中检测到的色差值和电阻值结果，按照第二预设调整规则将所述孪生硅靶材的第一输入功率调整至第二预设值并保持固定，所述第二预设调整规则包括：基于色差值和电阻值的偏离方向，选择调整方向，并匹配对应的孪生硅靶材调整量； 同时，设定第二输入功率的第二初始值，第二初始值是根据步骤S1中检测到的色差值和电阻值结果确定的，再控制所述铝靶材的第二输入功率按照第三预设调整规则以第二初始值为基础进行阶段性调整，所述第三预设调整规则包括：基于色差值和电阻值的偏离方向，选择调整方向；在所述第二输入功率调整过程中，继续监测薄膜的色差值和电阻值； 重复执行“按照第二预设调整规则将第一输入功率调整至第n预设值并保持固定、按照后续每一轮迭代中的铝靶功率调整规则调整铝靶材的第二输入功率、检测薄膜性能”的操作，形成多轮迭代循环，其中：n≥3，n为正整数； S3、最优参数确定：当某一轮迭代中，薄膜的色差值和电阻值达到预设范围时，记录此一轮迭代中对应的孪生硅靶材的第一输入功率和铝靶材的第二输入功率，作为目标工艺参数；若电阻值和色差值均未达到预设范围，则继续迭代直至满足预设范围。

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