余姚耀达电子科技有限公司李艳涛获国家专利权
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龙图腾网获悉余姚耀达电子科技有限公司申请的专利一种复合膜的模切参数获取方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120807503B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511293774.2，技术领域涉及：G06T7/00；该发明授权一种复合膜的模切参数获取方法及系统是由李艳涛;杨伟;闫魏设计研发完成，并于2025-09-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种复合膜的模切参数获取方法及系统在说明书摘要公布了：本申请涉及数据处理的技术领域，具体涉及一种复合膜的模切参数获取方法及系统，其方法包括：获取标准灰度图像和复合膜的连续帧实时灰度图像；针对任一帧实时灰度图像，结合标准灰度图像，计算实时灰度图像中任一像素点的背景概率和前景概率；基于前景概率和背景概率，计算得到任一像素点的边缘概率；基于实时灰度图像中所有像素点的边缘概率，对边缘概率进行密度聚类，获取针对实时灰度图像的实时边缘像素点集合；获取标准灰度图像的标准边缘像素点集合，基于实时边缘像素点集合和标准边缘像素点集合，计算得到复合膜的模切偏差参数。本申请能够动态计算复合膜的模切偏差参数，以识别切割路径，提高良品率。
本发明授权一种复合膜的模切参数获取方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种复合膜的模切参数获取方法，其特征在于，包括： 获取标准灰度图像和切割过程中复合膜的连续帧实时灰度图像； 针对任一帧所述实时灰度图像，结合所述标准灰度图像，计算所述实时灰度图像中任一像素点的背景概率和前景概率； 获取任一像素点与所述任一像素点的相邻像素点针对前景概率的第一概率差距； 获取任一像素点的相邻像素点的前景概率和背景概率的第二概率差距； 基于所述任一像素点的相邻像素点的像素点个数、所述第一概率差距和所述第二概率差距，计算得到所述任一像素点的边缘概率； 基于所述实时灰度图像中所有像素点的边缘概率，对所述边缘概率进行密度聚类，获取针对所述实时灰度图像的实时边缘像素点集合； 获取所述标准灰度图像的标准边缘像素点集合，基于所述实时边缘像素点集合和所述标准边缘像素点集合，计算得到所述复合膜的模切偏差参数。
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