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龙图腾网获悉浙江森田新材料有限公司申请的专利一种半导体蚀刻用BOE废液资源化再利用方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120865925B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511365882.6，技术领域涉及：C09K13/08；该发明授权一种半导体蚀刻用BOE废液资源化再利用方法是由潘美华;王元超;胡法祥;唐毅成;金硕;舒宇帆;张靖;董俊卿;朱卫;郑哲昭设计研发完成，并于2025-09-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种半导体蚀刻用BOE废液资源化再利用方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种半导体蚀刻用BOE废液资源化再利用方法，涉及废液处理及资源回收技术领域，包括如下步骤：步骤S1、废液预处理；步骤S2、除硅处理；步骤S3、添加剂去除；步骤S4、活性炭吸附；步骤S5、成分调整与精制。该半导体蚀刻用BOE废液资源化再利用方法具有更优异的添加剂及金属离子去除率，且用于面板BOE蚀刻速率更快，表面平整度更佳。

本发明授权一种半导体蚀刻用BOE废液资源化再利用方法在权利要求书中公布了：1.一种半导体蚀刻用BOE废液资源化再利用方法，其特征在于，包括如下步骤： 步骤S1、废液预处理：将半导体蚀刻产生的BOE废液通过过滤除去固体颗粒杂质，得到预处理后的BOE废液； 步骤S2、除硅处理：将电子级液氨气化并通入预处理后的BOE废液中，调整废液的pH值为8.5-9.5，将BOE废液中的HF转化为NH4F，H2SiF6转化为NH4F和SiO2，过滤除去生成的SiO2； 步骤S3、添加剂去除：向除硅处理后的BOE废液中加入复合废液处理剂，在25-40℃下搅拌1-2h，通过板框压滤机进行固液分离，得到脱添加剂废液；所述复合废液处理剂包括如下按重量份计的各组分：聚合硫酸铁1-3份、改性活性炭2-4份、羟基磷灰石1-3份、乙二胺四乙酸0.5-1.5份、过氧化氢0.5-1.5份； 步骤S4、活性炭吸附：将活性炭使用电子级HF浸泡，后使用超纯水清洗，重复三次后烘干，以除去活性炭中的金属离子，后将活性炭填装到吸附固定床；将脱添加剂废液以一定速率通过吸附固定床，得到经过活性炭吸附处理后的BOE废液； 步骤S5、成分调整与精制：将经过活性炭吸附处理后的BOE废液通过离子交换树脂柱，去除其中可能残留的微量金属离子，进一步提高BOE废液的纯度；接着检测其中HF和NH4F的含量，根据检测结果，向其中加入适量的氢氟酸和氟化铵，以调整HF和NH4F的比例，使其符合面板BOE的要求；加入超纯水，调整NH4F和HF的浓度，达到面板用BOE的指标； 所述改性活性炭为30%硝酸活化改性活性炭，其制备方法，包括如下步骤：将柱状活性炭作为基材，水洗后干燥，再与质量百分浓度为30%的硝酸溶液混合，采用油浴加热方式，将反应体系温度升至90℃，保持回流状态反应3-5小时，反应过程中通过冷凝管回收挥发的硝酸蒸气，减少试剂损耗与环境污染；反应结束后，趁热采用布氏漏斗抽滤分离固液混合物，用80℃去离子水反复洗涤活性炭至滤液pH值达到5.0-6.0；接着将洗涤后的活性炭转移至马弗炉中，在氮气保护氛围下进行梯度升温干燥，得到改性活性炭。

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