天津市锐欧泰科技有限公司李秀红获国家专利权
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龙图腾网获悉天津市锐欧泰科技有限公司申请的专利光刻机双频激光干涉仪反射镜调整结构获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223637887U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-05发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520045122.6，技术领域涉及：G03F7/20；该实用新型光刻机双频激光干涉仪反射镜调整结构是由李秀红;李珠设计研发完成，并于2025-01-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本光刻机双频激光干涉仪反射镜调整结构在说明书摘要公布了：本实用新型公开了光刻机双频激光干涉仪反射镜调整结构，属于光刻机领域，包括反射镜体和套在反射镜体外侧的镜框，镜框顶部连接有调整组件，镜框底部连接有转盘，转盘外侧活动套设有底座，调整组件包括防护罩，防护罩套在镜框外侧，防护罩顶端通过连接组件与镜框顶端连接，底座顶部开设有环形滑槽，防护罩底端延伸入环形滑槽内，防护罩内设有收纳腔，收纳腔内滑动设有弧形板。本实用新型通过防护罩辅助调整反射镜体的旋转角度，并且利用防护罩与弧形板配合能够在反射镜体外侧进行防护，以免调整过程中误碰镜框影响镜框与转盘之间的连接牢固性，同时防护罩体积大，调整起来更加便利。
本实用新型光刻机双频激光干涉仪反射镜调整结构在权利要求书中公布了：1.光刻机双频激光干涉仪反射镜调整结构，其特征在于：包括反射镜体1和套在反射镜体1外侧的镜框2，所述镜框2顶部连接有调整组件3，所述镜框2底部连接有转盘4，所述转盘4外侧活动套设有底座5； 所述调整组件3包括防护罩301，所述防护罩301套在镜框2外侧，所述防护罩301顶端通过连接组件6与镜框2顶端连接，所述底座5顶部开设有环形滑槽302，所述防护罩301底端延伸入环形滑槽302内，所述防护罩301内设有收纳腔303，所述收纳腔303内滑动设有弧形板304。
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