江苏鲁汶仪器股份有限公司郭颂获国家专利权
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龙图腾网获悉江苏鲁汶仪器股份有限公司申请的专利一种等离子体刻蚀设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223638326U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-05发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202423116173.8，技术领域涉及：H01J37/32；该实用新型一种等离子体刻蚀设备是由郭颂;秦彬鑫;王智超;李春桥;王海东;刘小波;胡冬冬;许开东设计研发完成，并于2024-12-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种等离子体刻蚀设备在说明书摘要公布了：本申请公开了一种等离子体刻蚀设备，涉及等离子体处理领域，包括：等离子体反应腔室、射频组件和偏压电极组件；其中，所述偏压电极组件包括：静电吸盘，所述静电吸盘包括层叠的第一组成结构和第二组成结构，所述第二组成结构远离所述第一组成结构的一侧放置所述晶圆，所述第一组成结构提供偏压电场，所述工艺气体在所述偏压电场的作用下向所述晶圆移动，所述第一组成结构包括至少两个支撑结构，所述支撑结构为导电结构，不同所述支撑结构之间设置有绝缘分隔结构；电压控制组件，所述电压控制组件包括至少两个输出端，不同所述支撑结构通过不同所述输出端提供偏压信号。该等离子体刻蚀设备可以提高刻蚀均匀性。
本实用新型一种等离子体刻蚀设备在权利要求书中公布了：1.一种等离子体刻蚀设备，其特征在于，包括： 等离子体反应腔室； 射频组件，所述射频组件能够产生射频电场，通入所述等离子体反应腔室的工艺气体在所述射频电场的作用下被电离成等离子体； 偏压电极组件，所述偏压电极组件位于所述等离子体反应腔室内； 其中，所述偏压电极组件包括： 静电吸盘，所述静电吸盘包括层叠的第一组成结构和第二组成结构，所述第二组成结构远离所述第一组成结构的一侧放置晶圆，所述第一组成结构提供偏压电场，所述工艺气体在所述偏压电场的作用下向所述晶圆移动，所述第一组成结构包括至少两个支撑结构，所述支撑结构为导电结构，不同所述支撑结构之间设置有绝缘分隔结构； 电压控制组件，所述电压控制组件包括至少两个输出端，不同所述支撑结构通过不同所述输出端提供偏压信号。
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