杰平方半导体(上海)有限公司周健获国家专利权
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龙图腾网获悉杰平方半导体(上海)有限公司申请的专利一种新型多电流通路NPN结构获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223639608U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-05发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202422766150.5,技术领域涉及:H10D10/60;该实用新型一种新型多电流通路NPN结构是由周健;王帅旗;张代中设计研发完成,并于2024-11-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种新型多电流通路NPN结构在说明书摘要公布了:本实用新型公开了一种新型多电流通路NPN结构,属于半导体器件技术领域,该新型多电流通路NPN结构,包括第二导电类型衬底;第一齐纳注入阱区,被布置在所述第二导电类型衬底中,所述第一齐纳注入阱区中设置有第二导电类型阳极区;第二齐纳注入阱区,被布置在所述第一齐纳注入阱区的一侧,且与所述第一齐纳注入阱区之间具有间隔,所述第二齐纳注入阱区中有从左至右依次排布第二导电类型阴极区、第一导电类型阴极区。通过引入第一齐纳注入阱区和第二齐纳注入阱区,将器件的反向击穿电流路径分为器件表面和器件体内两个部分,在不增加器件面积的基础上改进了器件的触发电压与失效电流特性。
本实用新型一种新型多电流通路NPN结构在权利要求书中公布了:1.一种新型多电流通路NPN结构,其特征在于,包括: 第二导电类型衬底; 第一齐纳注入阱区,被布置在所述第二导电类型衬底中,所述第一齐纳注入阱区中设置有第二导电类型阳极区; 第二齐纳注入阱区,被布置在所述第一齐纳注入阱区的一侧,且与所述第一齐纳注入阱区之间具有间隔,所述第二齐纳注入阱区中有从左至右依次排布第二导电类型阴极区、第一导电类型阴极区。
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