应用材料公司迪帕克·卡马拉纳坦获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利用于神经形态切换的双氧化物模拟开关获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113950752B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080042745.8，技术领域涉及：H10N70/20；该发明授权用于神经形态切换的双氧化物模拟开关是由迪帕克·卡马拉纳坦;阿尔卡纳·库马尔;西达斯·克里希南设计研发完成，并于2020-05-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于神经形态切换的双氧化物模拟开关在说明书摘要公布了：用于神经形态应用的示例性半导体结构可包含覆盖基板材料的第一层。第一层可为或可包含第一氧化物材料。结构可包含设置于邻近第一层的第二层。第二层可为或可包含第二氧化物材料。结构亦可包含沉积覆盖第二层的电极材料。
本发明授权用于神经形态切换的双氧化物模拟开关在权利要求书中公布了：1.一种用于神经形态应用的半导体结构，所述半导体结构包括： 第一层，覆盖基板材料，其中所述第一层包括第一氧化物材料，并且其中所述第一层形成为与所述基板材料接触； 第二层，设置于邻近所述第一层，其中所述第二层包括第二氧化物材料；及电极材料，沉积覆盖所述第二层，其中所述第一氧化物材料和所述第二氧化物材料特征在于： 相对于所述第一氧化物材料的氧亲和力，所述第二氧化物材料的氧亲和力导致所述第二氧化物材料和所述第一氧化物材料之间的交换，足以导致当设定电流被施加至所述半导体结构时，在所述半导体结构中本体切换并防止形成细丝。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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