格芯(美国)集成电路科技有限公司S·P·阿杜苏米利获国家专利权
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龙图腾网获悉格芯(美国)集成电路科技有限公司申请的专利用于增强热导率和RF屏蔽的有源区下具有掩埋导体的衬底获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114300425B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-09发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111005043.5,技术领域涉及:H01L23/367;该发明授权用于增强热导率和RF屏蔽的有源区下具有掩埋导体的衬底是由S·P·阿杜苏米利;M·D·雷维;R·哈兹布恩;A·约瑟夫;S·本特利设计研发完成,并于2021-08-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于增强热导率和RF屏蔽的有源区下具有掩埋导体的衬底在说明书摘要公布了:本发明涉及用于增强热导率和RF屏蔽的有源区下具有掩埋导体的衬底。提供了一种半导体器件,该半导体器件包括衬底,在衬底中具有合并腔。有源区位于衬底中的合并腔之上。导热层位于衬底中的合并腔中,其中导热层至少部分地填充衬底中的合并腔。第一接触柱连接衬底中合并腔中的导热层与有源区上方的金属化层。
本发明授权用于增强热导率和RF屏蔽的有源区下具有掩埋导体的衬底在权利要求书中公布了:1.一种半导体器件,包括: 衬底,在所述衬底中具有合并腔; 有源区,其位于所述衬底中的所述合并腔之上; 导热层,其位于所述衬底中的所述合并腔中,其中所述导热层至少部分地填充所述衬底中的所述合并腔; 第一接触柱,其连接所述衬底中的所述合并腔中的所述导热层与所述有源区上方的金属化层;以及电介质衬里,其位于所述衬底中的所述合并腔的上部的侧壁之上,其中所述电介质衬里部分地覆盖所述衬底中的所述合并腔的下部。
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