上海华力集成电路制造有限公司陈燕鹏获国家专利权
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龙图腾网获悉上海华力集成电路制造有限公司申请的专利OPC修正方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114660890B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210187299.0，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权OPC修正方法是由陈燕鹏;王丹;于世瑞设计研发完成，并于2022-02-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本OPC修正方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种OPC修正方法，包括：步骤一、提供版图的目标层。步骤二、形成MEEF热点标记。步骤三、将MEEF热点标记导入MBOPC系统中。步骤四、在MBOPC系统中设置所述MEEF热点标记下的切分线段的第一移动规则，第一移动规则用于保证MEEF热点标记所覆盖区域的图形的MEEF符合要求值。步骤五、运行MBOPC得到掩模版层，在运行MBOPC的过程中，MEEF热点标记所覆盖区域的图形的切分线段按照第一移动规则移动。本发明能降低掩模版整体的MEEF，提高光刻工艺窗口和产品良率，还能减小人力以及计算机资源，从而提高出版效率。
本发明授权OPC修正方法在权利要求书中公布了：1.一种OPC修正方法，其特征在于，包括如下步骤： 步骤一、提供版图的目标层； 步骤二、形成MEEF热点标记，所述MEEF热点标记所覆盖的区域包括MEEF热点区域； 步骤三、将所述MEEF热点标记导入MBOPC系统中； 步骤四、在所述MBOPC系统中设置所述MEEF热点标记下的切分线段的第一移动规则，所述第一移动规则用于保证所述MEEF热点标记所覆盖区域的图形的MEEF符合要求值； 步骤五、运行MBOPC得到掩模版层，在运行所述MBOPC的过程中，所述MEEF热点标记所覆盖区域的图形的切分线段按照所述第一移动规则移动。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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