清华大学张昊获国家专利权
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龙图腾网获悉清华大学申请的专利量子点的无损光刻图案化方法和设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114839835B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210268605.3，技术领域涉及：G03F7/00；该发明授权量子点的无损光刻图案化方法和设备是由张昊;李景虹;卢少勇设计研发完成，并于2022-03-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本量子点的无损光刻图案化方法和设备在说明书摘要公布了：本发明提供了一种量子点的无损光刻图案化方法和设备，包括：将量子点与含有双吖丙啶基团的光敏交联剂的混合溶液制成薄膜；将所述薄膜置于紫外光照下，并借助于光掩膜版使所述薄膜接受所述紫外光照射的曝光区域发生交联反应；采用预设溶剂清洗所述薄膜，以洗脱除去所述薄膜的未曝光区域进行显影，得到图案化的量子点薄膜。本发明利用光敏交联剂的光分解反应对量子点的表面配体进行交联，避免了复杂光刻胶的引入，实现量子点光致图案化，可兼容于目前广泛应用的不同紫外波长的光刻机系统，易于推广实施。
本发明授权量子点的无损光刻图案化方法和设备在权利要求书中公布了：1.一种量子点的无损光刻图案化方法，包括： 将量子点与含有双吖丙啶基团的光敏交联剂的混合溶液制成薄膜； 将所述薄膜置于紫外光照下，并借助于光掩膜版使所述薄膜接受所述紫外光照射的曝光区域发生交联反应； 采用预设溶剂清洗所述薄膜，以洗脱除去所述薄膜的未曝光区域进行显影，得到图案化的量子点薄膜；其中，图案化之后的相对荧光量子产率为90%以上。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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