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龙图腾网获悉上海华力集成电路制造有限公司申请的专利测试接触孔阻值的版图获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115000048B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210766634.2，技术领域涉及：H01L23/544；该发明授权测试接触孔阻值的版图是由王丽萍;萧至廷;薛培堃设计研发完成，并于2022-06-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本测试接触孔阻值的版图在说明书摘要公布了：本发明提供一种测试接触孔阻值的版图，包括第一有源区图形；横跨第一有源区图形的第一、二栅极图形，且第一有源区图形隔断第一、二栅极图形；设于第一、二栅极图形间，且设于第一有源区图形上的第一接触孔图形；分别设于第一、二栅极图形两侧，且设于第一有源区图形上的第二、三接触孔图形；分别设于第一至三接触孔图形上的第一至三金属层图形；第三栅极图形；设于第三栅极图形上的第四接触孔图形，以及设于第四接触孔图形两端，且设于第三栅极图形上的第五、六接触孔图形；分别设于第四至六接触孔图形上的第四至第六金属层图形。本发明的版图制造出的器件，能够分别测试在有源区上的接触孔和在栅极上的接触孔两种类型的阻值。

本发明授权测试接触孔阻值的版图在权利要求书中公布了：1.一种测试接触孔阻值的版图结构，其特征在于，至少包括： 第一有源区图形； 横跨所述第一有源区图形的第一、二栅极图形，且所述第一有源区图形隔断所述第一、二栅极图形； 设于所述第一、二栅极图形间，且设于所述第一有源区图形上的第一接触孔图形； 分别设于所述第一、二栅极图形两侧，且设于所述第一有源区图形上的第二、三接触孔图形； 分别设于所述第一至三接触孔图形上的第一至三金属层图形，其中第一金属层图形与第二金属层图形之间，构成第一接触孔图形与第二接触孔图形间的电流测试回路，且第一金属层图形与第三金属层图形间，构成第一接触孔图形与第三接触孔图形间的电压测试回路； 第三栅极图形； 设于所述第三栅极图形上的第四接触孔图形，以及设于所述第四接触孔图形两端，且设于第三栅极图形上的第五、六接触孔图形； 分别设于所述第四至六接触孔图形上的第四至第六金属层图形，其中第四金属层图形与第五金属层图形之间，构成第四接触孔图形与第五接触孔图形间的电流测试回路，且第四金属层图形与第六金属层图形之间，构成第四接触孔图形与第六接触孔图形间的电压测试回路。

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