台湾积体电路制造股份有限公司廖啟宏获国家专利权
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龙图腾网获悉台湾积体电路制造股份有限公司申请的专利清洁光罩的表面的方法与系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115248534B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110921223.1，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权清洁光罩的表面的方法与系统是由廖啟宏;施柏铭设计研发完成，并于2021-08-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本清洁光罩的表面的方法与系统在说明书摘要公布了：一种清洁光罩的表面的方法与系统，清洁光罩的表面的方法包括：从光罩库撷取光罩且将光罩转移至第一曝光装置。在第一曝光装置中以极紫外辐射在预定照射时间照射光罩的表面来清洁光罩的表面。在清洁光罩的表面之后，将光罩转移至用于微影操作的第二曝光装置。
本发明授权清洁光罩的表面的方法与系统在权利要求书中公布了：1.一种清洁光罩的表面的方法，其特征在于，包括： 从一光罩库撷取一光罩； 将该光罩转移至一第一曝光装置； 在该第一曝光装置中以一第一极紫外辐射在一预定照射时间照射该光罩的一表面来清洁该光罩的该表面； 在清洁该光罩的该表面之后，将该光罩转移至用于微影操作的一第二曝光装置； 通过一第二极紫外辐射将该光罩的一布局图案投影至一晶圆的一光阻层上； 显影该光阻层以在该晶圆上产生一光阻图案； 对该晶圆的一表面进行成像以在该晶圆上产生该光阻图案的一影像； 分析该光阻图案的该影像以决定该光阻图案的一临界尺寸均匀性；及如果该临界尺寸均匀性不满足一阀值临界尺寸均匀性，则增加该预定照射时间。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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