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龙图腾网获悉上海华力集成电路制造有限公司申请的专利改善边缘放置误差的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115268205B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210859062.2，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权改善边缘放置误差的方法是由戴韫青设计研发完成，并于2022-07-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本改善边缘放置误差的方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种改善边缘放置误差的方法，提供设计版图，对设计版图第一次光学临近修正得到第一光罩图形；其中，第一光罩图形上形成有至少一个片段图形，使得第一光罩图形呈阶梯状，第一光罩图形的第一曝光后轮廓与设计版图间存在第一边缘放置误差；在第一光罩图形存在高度差处插入补偿图形，得到第二光罩图形；根据第二光罩图形得到第二曝光后轮廓，使得第二曝光后轮廓与设计版图间存在的第二边缘放置误差小于第一边缘放置误差。本发明在光罩修正图形中落差较大的两图形之间生成一个阶梯状的图形做为缓冲，曝光产生的轮廓有较小的边缘放置误差EPE，并且其轮廓上的波浪现象也减弱。

本发明授权改善边缘放置误差的方法在权利要求书中公布了：1.一种改善边缘放置误差的方法，其特征在于，至少包括： 步骤一、提供设计版图，对所述设计版图第一次光学临近修正得到第一光罩图形；其中，所述第一光罩图形上形成有至少一个片段图形，使得所述第一光罩图形呈阶梯状，所述第一光罩图形的第一曝光后轮廓与所述设计版图间存在第一边缘放置误差； 步骤二、在所述第一光罩图形存在高度差处插入补偿图形，得到第二光罩图形，其中，所述补偿图形位于呈阶梯状的所述第一光罩图形的凹边，所述凹边为一个所述片段图形相对所述第一光罩图形另一侧的边或两所述片段图形间的边；所述补偿图形的形状为矩形或阶梯形，当所述补偿图形为矩形时，其宽度X＝D*P；当所述补偿图形为阶梯形时，其由n个高度依次降低的矩形组成，第n个所述矩形的宽依次为X＝D*P^n，n为大于2的正整数；D为所述片段图形的宽度，P为大于0且小于1的系数； 步骤三、根据所述第二光罩图形得到第二曝光后轮廓，使得所述第二曝光后轮廓与所述设计版图间存在的第二边缘放置误差小于所述第一边缘放置误差。

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