沈阳仪表科学研究院有限公司宋光辉获国家专利权
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龙图腾网获悉沈阳仪表科学研究院有限公司申请的专利一种金属基底紫外宽带高反射滤光镜及制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115657190B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211592200.1，技术领域涉及：G02B5/28；该发明授权一种金属基底紫外宽带高反射滤光镜及制备方法是由宋光辉;李文龙;王银河;刘海涛;李明华;董明设计研发完成，并于2022-12-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种金属基底紫外宽带高反射滤光镜及制备方法在说明书摘要公布了：本发明属光学薄膜领域，特别是涉及一种金属基底紫外宽带高反射滤光镜及制备方法，包括基底、吸收膜系和反射膜系；所述吸收膜系由吸收层和减反射层构成；所述反射膜系由高折射率ZrO2膜层和低折射率SiO2膜层依次交替沉积而成，且沉积第一层和最后一层均为高折射率ZrO2膜层；所述吸收膜系共计2层，其中吸收层采用金属Cr和SiO2的混合膜料镀制而成，吸收层物理厚度在800～1200nm，而减反射层为单层SiO2，单层SiO2的物理厚度在40～70nm。本发明可有效提高金属基底紫外宽带高反射滤光镜紫外区反射率，具有生产效率高，膜层硬度高，光谱及化学性能稳定，更换周期长与维护方便等特点。
本发明授权一种金属基底紫外宽带高反射滤光镜及制备方法在权利要求书中公布了：1.一种金属基底紫外宽带高反射滤光镜，其特征在于，包括基底、吸收膜系和反射膜系；所述吸收膜系由吸收层和减反射层构成，材料为Cr和SiO2材料；所述反射膜系由高折射率ZrO2膜层和低折射率SiO2膜层依次交替沉积而成，且沉积第一层和最后一层均为高折射率ZrO2膜层；所述吸收膜系共计2层，其中吸收层采用金属Cr和SiO2的混合膜料镀制而成，吸收层物理厚度在800～1200nm，而减反射层为单层SiO2，单层SiO2的物理厚度在40～70nm。
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