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龙图腾网获悉江苏上达半导体有限公司申请的专利一种基于高速高精度卷对卷抗蚀膜冲型的线路成形工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115988746B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211705159.4，技术领域涉及：H05K3/00；该发明授权一种基于高速高精度卷对卷抗蚀膜冲型的线路成形工艺是由刘明寒;计晓东;王健设计研发完成，并于2022-12-29向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于高速高精度卷对卷抗蚀膜冲型的线路成形工艺在说明书摘要公布了：本发明属于印刷电路板精密线路成形技术领域，具体涉及一种基于高速高精度卷对卷抗蚀膜冲型的线路成形工艺，包括冲标记孔工序，对耐酸膜和铜箔开冲间距相同，位置重合的标记孔；耐酸膜冲型工序：对耐酸膜进行半冲型，将非线路区域的耐酸膜压平；图形转移工序：分别使用CCD机器视觉系统完成耐酸膜与铜箔对位，通过活动滚轮、橡胶滚轮、加热滚轮将冲型好的耐酸膜转移到铜箔上；蚀刻、褪膜工序：将贴好耐酸膜的铜箔依次浸泡在酸性溶液和碱性溶液中，完成线路成形。本发明减少了材料成本，节约了设备成本，比传统的曝光、显影工序的工艺控制更加容易，良率提升至99.9%。

本发明授权一种基于高速高精度卷对卷抗蚀膜冲型的线路成形工艺在权利要求书中公布了：1.一种基于高速高精度卷对卷抗蚀膜冲型的线路成形工艺，其特征在于：包括冲标记孔工序、耐酸膜冲型工序、图形转移工序、蚀刻工序和褪膜工序；其中，冲标记孔工序：根据产品图形的大小，设置孔间距，对耐酸膜12和铜箔13开冲间距相同，位置重合的标记孔； 耐酸膜冲型工序：根据产品图形，对耐酸膜12进行半冲型，其中耐酸膜12下表面贴附有离型膜14，半冲型时只将耐酸膜12冲断，而不冲断离型膜14；使用模具2对非线路区域进行冲压，将非线路区域的耐酸膜12压平； 图形转移工序：分别使用CCD机器视觉系统4识别耐酸膜12和铜箔13上的标记点，完成耐酸膜12与铜箔13对位，活动滚轮5将耐酸膜12托起与橡胶滚轮7接触，加热滚轮9将铜箔13托起与橡胶滚轮7接触，橡胶滚轮7将冲型好的耐酸膜12转移到铜箔13上； 蚀刻工序：将贴好耐酸膜的铜箔13流转至酸性溶液池中，将没有耐酸膜覆盖区域的铜箔13蚀刻掉，形成线距； 褪膜工序：将蚀刻后的铜箔13流转至碱性溶液池中，将耐酸膜12剥离掉，完成线路成形。

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