华虹半导体(无锡)有限公司丁爱祥获国家专利权
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龙图腾网获悉华虹半导体(无锡)有限公司申请的专利一种圆片翻转异常侦测方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116344397B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310277712.7，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权一种圆片翻转异常侦测方法及系统是由丁爱祥;谭秀文;吕剑设计研发完成，并于2023-03-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种圆片翻转异常侦测方法及系统在说明书摘要公布了：本申请公开了一种圆片翻转异常侦测方法及系统，属于测量仪器技术领域。该圆片翻转异常侦测系统中，针对圆片翻转异常时无警报问题进行了结构改进，增加了传感器，在翻转异常时及时发出警报，降低异常带来的对晶圆的影响。
本发明授权一种圆片翻转异常侦测方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种圆片翻转异常侦测系统，其特征在于，所述系统包括：背面溅射设备、翻转机构、侦测传感器和声光报警装置； 所述背面溅射设备用于对晶圆圆片的背面进行工艺； 所述翻转机构位于所述背面溅射设备工作范围内，所述翻转机构用于固定所述圆片并进行翻转操作； 所述侦测传感器设置于所述背面溅射设备处，所述侦测传感器的侦测空间包括所述翻转机构的动作空间，所述侦测传感器包括发射传感器和接受传感器，所述发射传感器和所述接受传感器间隔设置； 所述发射传感器用于向所述接受传感器发射探测光，所述接受传感器用于接收所述探测光； 所述声光报警装置与所述侦测传感器电性进行信息交互，所述声光报警装置用于在所述圆片被所述翻转机构进行翻转操作时，若所述探测光未被所述圆片或所述翻转机构遮挡的持续时间超过预设的目标感应时间，则发出报警。
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