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龙图腾网获悉北京理工大学申请的专利一种干涉-荧光原位耦合的荧光染色薄膜厚度测量系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116358425B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310486789.5，技术领域涉及：G01B11/06；该发明授权一种干涉-荧光原位耦合的荧光染色薄膜厚度测量系统是由王文中;陈虹百;梁鹤设计研发完成，并于2023-05-04向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种干涉-荧光原位耦合的荧光染色薄膜厚度测量系统在说明书摘要公布了：本发明公开了一种干涉‑荧光原位耦合的荧光染色薄膜厚度测量系统，对干涉条纹法不适用于微米尺度以上的膜厚测量、荧光法微米尺度以下膜厚测量灵敏度欠佳的问题，本发明考虑到两种方法各自的优势，能够基于同一光路在原位分别得到待测薄膜的荧光强度分布与干涉条纹图像，进而可以分别使用荧光法与干涉法计算微米级、纳米级薄膜厚度，实现干涉‑荧光原位耦合的薄膜厚度测量，从而有效地提升薄膜厚度测量的灵敏度，扩展薄膜厚度测量的量程。

本发明授权一种干涉-荧光原位耦合的荧光染色薄膜厚度测量系统在权利要求书中公布了：1.一种干涉‑荧光原位耦合的荧光染色薄膜厚度测量系统，其特征在于，包括干涉‑荧光原位耦合主光路和待测薄膜组合模块； 待测薄膜组合模块包括黄金镀膜3、玻璃片4、反射镜1、待测荧光染色薄膜2； 所述玻璃片4下表面镀有黄金镀膜3；所述待测荧光染色薄膜2贴合在黄金镀膜3的下方，发射峰波长为λE；所述反射镜1贴合在待测荧光染色薄膜2下方放置； 所述干涉‑荧光原位耦合主光路包括物镜5、第一成像透镜13、第二成像透镜15、荧光模块、光干涉模块、分光模块、第一相机14、第二相机16、第一激光源7、第二激光源10； 待测薄膜组合模块、物镜5、荧光模块、干涉模块、分光模在主光路中顺次布置； 所述荧光模块包括阈值为λ1的二相色长通滤光片17、阈值为λ2的第一长通滤光片18；二相色长通滤光片17与主光路光轴呈45度角，第一长通滤光片18垂直主光路光轴放置； 所述光干涉模块包括全波长半反半透滤光片19；所述全波长半反半透滤光片19滤光片与主光路光轴呈45度角； 所述分光模块包括阈值为λ3的二相色短通滤光片20、阈值为λ4的短通滤光片21、阈值为λ5的第二长通滤光片22；二相色短通滤光片20与主光路光轴呈45度角；短通滤光片21垂直主光路光轴，第二长通滤光片22平行主光路光轴； 所述荧光模块、光干涉模块、分光模块均可分别移入、移出主光路； 所述第一相机14与第一成像透镜13放置于第二长通滤光片22的反射光路中，用于干涉成像； 所述第二相机16与第二成像透镜15放置于全波长半反半透滤光片19的反射光路中，用于荧光成像； 所述第一激光源7的工作波长为λF，其产生的激光经二相色长通滤光片17反射进入主光路；第二激光源10的工作波长为λR，经全波长半反半透滤光片19反射进入主光路； 波长关系满足下式： λFλ1λ2λE530nmλ4λ3λ5λR。

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