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宿迁学院史洪玮获国家专利权

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龙图腾网获悉宿迁学院申请的专利一种基于EEHM的三维模型成型方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116728785B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-09发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202310744665.2,技术领域涉及:B29C64/393;该发明授权一种基于EEHM的三维模型成型方法是由史洪玮;王宜怀;孙淼;张露;孟雪;万娟;王力申;仲美怡;卞京华;蒋定宏;钱杰;周骁设计研发完成,并于2023-06-25向国家知识产权局提交的专利申请。

一种基于EEHM的三维模型成型方法在说明书摘要公布了:本申请提供一种基于EEHM的三维模型成型方法。针对组合投影在拼接处由于像素重叠产生的光学畸变导致的接缝问题,提出了边缘能量均匀化方案:对三维模型等厚切片得到三维模型的切片掩膜图像;根据投影设备拼接模式对切片掩膜图像进行切分、像素填充,得到每个投影设备的单元切分掩膜图像;通过以非线性衰减的方式生成一组对称灰度虚拟掩膜图像;按照投影顺序将所述灰度虚拟掩膜图像与所述单元切分掩膜图像相融合,并投影至液态树脂表面完成单层切片固化,逐层叠加固化层以生成三维模型的实体。解决DLP拼接投影中出现的光学畸变,改善模型实体在拼接处因紫外曝光能不均产生的打印缺陷,模型成品的表面更平整,成型质量更好。

本发明授权一种基于EEHM的三维模型成型方法在权利要求书中公布了:1.一种基于EEHM的三维模型成型方法,其特征在于,包括: 对三维模型等厚切片得到三维模型的切片掩膜图像; 根据投影设备拼接模式对切片掩膜图像进行切分、像素填充,得到每个投影设备的单元切分掩膜图像; 通过以非线性衰减的方式生成一组对称灰度虚拟掩膜图像; 按照投影顺序将所述灰度虚拟掩膜图像与所述单元切分掩膜图像相融合,并投影至液态树脂表面完成单层切片固化,逐层叠加固化层以生成三维模型的实体; 所述像素填充得到每个投影设备的单元切分掩膜图像,包括: 在两台DLP投影设备左右拼接时,设重叠区域像素宽度为γ,将左切分掩膜图像放在左DLP投影设备的最右侧,若无法填充整个DLP投影面,则对不足部分填充黑色像素,得到左单元掩膜图像; 右切分掩膜图像在对不足部分填充图像之前,先将左切分掩膜图像最右侧的γ宽度像素图像填充在右切分掩膜图像的最左侧,接着将左切分掩膜图像放置在右DLP投影设备最左侧后,对右侧不足的部分填充黑色像素,生成右单元掩膜图像; 所述按照投影顺序将灰度虚拟掩膜与所述单元切分掩膜图像相融合,包括: 将一组对称灰度虚拟掩膜图像包括的左右灰度虚拟掩膜图像分别与左右单元掩膜图像相融合,得到对重叠区光学矫正的左右单元掩膜图像的有序集合,所述融合是将单元掩膜图像的重叠区域的像素点的亮度值与由EEHM算法设计的非线性衰减曲线对应位置的衰减系数相乘,以修改目标像素点的亮度值。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人宿迁学院,其通讯地址为:223865 江苏省宿迁市黄河南路399号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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