上海应用技术大学周琼获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉上海应用技术大学申请的专利一种CrAlTaN多层梯度涂层及其制备方法与应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116988009B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310843324.0，技术领域涉及：C23C14/06；该发明授权一种CrAlTaN多层梯度涂层及其制备方法与应用是由周琼;王涛;黄彪;张而耕;陈强;梁丹丹设计研发完成，并于2023-07-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种CrAlTaN多层梯度涂层及其制备方法与应用在说明书摘要公布了：本发明涉及一种CrAlTaN多层梯度涂层及其制备方法与应用，涂层包括自内至外依次沉积在基体表面的CrN打底层、CrAlN过渡层、TaAlN层和CrAlTaN表面膜层；具体方法包括如下步骤：1基体表面预处理；2制备CrN打底层；3制备CrAlN过渡层；4制备TaAlN层；5制备CrAlTaN表面膜层；CrN打底层、CrAlN过渡层、TaAlN层和CrAlTaN表面膜层的总体厚度为1.8‑2.6μm；CrN打底层的厚度为0.4‑0.6μm，CrAlN过渡层的厚度为0.3‑0.5μm，TiCrN过渡层的厚度为0.3‑0.5μm，CrAlTaN表面膜层的厚度为0.8‑1μm；与现有技术相比，本发明通过层之间梯度叠加的方法使层之间的热膨胀系数差较小，涂层间的内应力变小，不仅增强了涂层与基体间的结合力而且让各层间的结合强度进一步提升。
本发明授权一种CrAlTaN多层梯度涂层及其制备方法与应用在权利要求书中公布了：1.一种CrAlTaN多层梯度涂层，其特征在于，包括采用物理气相沉积技术依次沉积在基体表面的CrN打底层、CrAlN过渡层、TaAlN层和CrAlTaN表面膜层； 所述CrN打底层、CrAlN过渡层、TaAlN层和CrAlTaN表面膜层的总体厚度为1.8‑2.6μm； 所述CrN打底层的厚度为0.4‑0.6μm，所述CrAlN过渡层的厚度为0.3‑0.5μm，所述TaAlN层的厚度为0.3‑0.5μm，所述CrAlTaN表面膜层的厚度为0.8‑1μm。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人上海应用技术大学，其通讯地址为：201418 上海市奉贤区海泉路100号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励