浙江科贸实业有限公司刘伟获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江科贸实业有限公司申请的专利一种使用可降低运行阻力的叶片的设计方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN117287414B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-09发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202311302217.3,技术领域涉及:F04D29/38;该发明授权一种使用可降低运行阻力的叶片的设计方法是由刘伟;袁鹏程;张职锋设计研发完成,并于2023-10-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种使用可降低运行阻力的叶片的设计方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种使用可降低运行阻力的叶片的设计方法,涉及风机叶片技术领域,包括叶片本体,所述叶片本体上设有叶片工作面、叶片前缘曲线,叶片工作面上设有草绘分布曲线组、凹洞阵列区域,凹洞阵列区域由所述草绘分布曲线组的外围围合而成,凹洞阵列区域中阵列设置有多个凹洞,草绘分布曲线组包括多条草绘分布曲线,凹洞设置于草绘分布曲线上。本发明通过在叶片上设有阵列设置的多个凹洞,进行结构优化,适用于能够添加凹洞的所有叶片,在当前叶片的基础上,简单改模即可实现,成本低廉,提升叶片效率,减小叶片前后的压力差,进而减小叶片自身的阻力,提高叶轮的性能,普适性广,凹洞结构简单,工艺简便,叶片工作效果显著,应用广泛。
本发明授权一种使用可降低运行阻力的叶片的设计方法在权利要求书中公布了:1.一种使用可降低运行阻力的叶片的设计方法,所述叶片包括叶片本体,叶片本体上设有叶片工作面2、叶片前缘曲线7,所述叶片工作面2上设有草绘分布曲线组、凹洞阵列区域,所述凹洞阵列区域由所述草绘分布曲线组的外围围合而成,所述凹洞阵列区域中阵列设置有多个凹洞1,所述草绘分布曲线组包括多条草绘分布曲线,所述凹洞1设置于草绘分布曲线上,其特征在于,包括以下步骤: 步骤S1、建立凹洞草绘分布曲线C1:将叶片前缘曲线偏移d个单位距离得到第一条分布曲线,再将叶片前缘曲线偏移2d个单位距离得到第二条分布曲线,再依次偏移得到第n条分布曲线;草绘内周及外周曲线,删去内周曲线内的多余分布曲线,删去外周曲线外的多余分布曲线,形成长度均匀变化的分布曲线; 步骤S2、复制并偏移叶片工作面曲面:复制叶片工作面曲面为F0,将F0偏移y个曲面距离得到偏移曲面F1; 步骤S3、创建投影曲线C2:使用投影功能,将草绘分布曲线投影至F1,得到投影曲线C2; 步骤S4、创建基准面F:将投影后的第一条分布曲线以及靠近叶柄侧的起点为基准创建基准面; 步骤S5、创建第一个凹洞特征:在基准面F上创建旋转切除特征,半圆截面旋转360度完成旋转切除特征,叶片上产生被切除后留下的凹洞; 步骤S6、将步骤S5中第一个凹洞进行阵列:选择曲线分布阵列类型,选择草绘分布曲线C1,设置间距d,选择跟随曲面形状F0,阵列方向跟随曲面方向,跟随曲线方向,点选去除分布过于外侧的凹洞特征,确定后完成凹洞特征的阵列。
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