西安奕斯伟材料科技股份有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司张申申获国家专利权
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龙图腾网获悉西安奕斯伟材料科技股份有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司申请的专利边缘抛光设备及边缘抛光方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117359472B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311595528.3，技术领域涉及：B24B29/04；该发明授权边缘抛光设备及边缘抛光方法是由张申申;孙介楠设计研发完成，并于2023-11-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本边缘抛光设备及边缘抛光方法在说明书摘要公布了：本公开涉及边缘抛光设备及边缘抛光方法，所述边缘抛光设备包括：用于承载硅片的承载模块；边缘抛光模块，所述边缘抛光模块设置成用于对所述硅片的边缘进行抛光；修整模块；其中，所述修整模块包括抛磨部和清理部，所述抛磨部设置成能够在所述边缘抛光模块对所述硅片的边缘进行抛光的同时，通过抛磨所述边缘抛光模块来对所述边缘抛光模块进行修整，所述清理部设置成能够在所述边缘抛光模块对所述硅片的边缘进行抛光的同时，通过清理所述边缘抛光模块来对所述边缘抛光模块进行修整。
本发明授权边缘抛光设备及边缘抛光方法在权利要求书中公布了：1.一种边缘抛光设备，其特征在于，所述边缘抛光设备包括： 用于承载硅片的承载模块； 边缘抛光模块，所述边缘抛光模块设置成用于对所述硅片的边缘进行抛光； 修整模块； 其中，所述修整模块包括抛磨部和清理部，所述抛磨部设置成能够在所述边缘抛光模块对所述硅片的边缘进行抛光的同时，通过抛磨所述边缘抛光模块来对所述边缘抛光模块进行修整，所述清理部设置成能够在所述边缘抛光模块对所述硅片的边缘进行抛光的同时，通过清理所述边缘抛光模块来对所述边缘抛光模块进行修整，所述修整模块包括多个抛磨部，所述多个抛磨部设置成能够分别对所述边缘抛光模块进行抛磨，以使抛磨后的所述边缘抛光模块具有不同的粗糙度，所述多个抛磨部中的每个抛磨部和所述清理部沿竖向方向同轴地布置，并且设置成能够相对于所述边缘抛光模块沿竖向方向的移动成分别与所述边缘抛光模块对准，以对所述边缘抛光模块进行修整。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人西安奕斯伟材料科技股份有限公司;西安奕斯伟硅片技术有限公司，其通讯地址为：710065 陕西省西安市高新区西沣南路1888号1-3-029室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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