昆明理工大学;上海机电工程研究所冯晶获国家专利权
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龙图腾网获悉昆明理工大学;上海机电工程研究所申请的专利一种相稳定的缺陷型Al(Ta1-xAx)O4-0.5x环境障涂层陶瓷材料及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117623775B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-09发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311724179.0，技术领域涉及：C04B35/495；该发明授权一种相稳定的缺陷型Al(Ta1-xAx)O4-0.5x环境障涂层陶瓷材料及其制备方法是由冯晶;张陆洋;华洲;刘陆广;利建雨;张迪;许斌;陈琳;王建坤设计研发完成，并于2023-12-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种相稳定的缺陷型Al(Ta1-xAx)O4-0.5x环境障涂层陶瓷材料及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及高温防护涂层技术领域，具体公开了一种相稳定的缺陷型AlTa1‑xAxO4‑0.5x环境障涂层陶瓷材料及其制备方法，包括将氧化铝、氧化钽和第IVB族元素氧化物按照1：1‑x：2x摩尔比混合成原料粉体，x的范围为0.01‑0.2；然后通过固相烧结法得到相稳定的缺陷型AlTa1‑xAxO4‑0.5x环境障涂层陶瓷材料。制备方法，包括如下步骤：S1、将氧化铝、氧化钽Ta2O5和第IVB族元素氧化物混合；S2、原料粉体球磨、烘干、过筛，得到混合粉体；S3、混合粉体进行热压烧结得到陶瓷块；S4、陶瓷块进行退火处理。本发明得到的材料具有与基体高度适配的热膨胀系数、较低的热导率、较高的硬度以及优异的高温相稳定性，保证了在大温域服役环境中，涂层的抗热震和高速粒子冲击性能，延长了涂层的使用寿命。
本发明授权一种相稳定的缺陷型Al(Ta1-xAx)O4-0.5x环境障涂层陶瓷材料及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种相稳定的缺陷型AlTa1‑xAxO4‑0.5x环境障涂层陶瓷材料，其特征在于：包括将氧化铝、氧化钽和第IVB族元素氧化物按照1：1‑x：2x摩尔比混合成原料粉体，x的范围为0.01‑0.2；然后通过固相烧结法将所制粉体烧结成型得到相稳定的缺陷型AlTa1‑xAxO4‑0.5x环境障涂层陶瓷材料；所述第IVB族元素氧化物为TiO2、ZrO2、HfO2中的一种，所述环境障涂层陶瓷材料在25‑1400℃下无相变。
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