日东电工株式会社中原步梦获国家专利权
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龙图腾网获悉日东电工株式会社申请的专利光学薄膜、偏光板和光学薄膜的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114236649B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111050995.9，技术领域涉及：G02B1/04；该发明授权光学薄膜、偏光板和光学薄膜的制造方法是由中原步梦设计研发完成，并于2021-09-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学薄膜、偏光板和光学薄膜的制造方法在说明书摘要公布了：提供光学薄膜、偏光板和光学薄膜的制造方法。提供抑制加湿可靠性试验中的相位差变化、且抑制紫外区的耐候性试验中的色相的变化、进而粘接性优异的光学薄膜和包含该光学薄膜的偏光板。使用由具有规定范围的双折射的树脂构成、取向度为5％以上的光学薄膜。
本发明授权光学薄膜、偏光板和光学薄膜的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种光学薄膜的制造方法，其包括线速度为7mmin~15mmin的制膜工序， 所述光学薄膜为由双折射Δnxy为0.015以上的树脂构成的光学薄膜，取向度为5%以上，面内相位差Re550为20nm以下，在65℃和90%RH下保持500小时后的相位差变化率为10%以下，紫外区的耐候性试验中的b值的变化率为1%以下，其中，Re550是23℃下的利用波长550nm的光而测得的面内相位差， 所述树脂包含聚碳酸酯系树脂， 所述聚碳酸酯系树脂包含源自下述式4所示的二羟基化合物的结构单元和源自脂环式二羟基化合物的结构单元， 该脂环式二羟基化合物用下述通式II表示，R1为下述IIb所示的结构，n＝0， HOCH2-R1-CH2OHII 。
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