株式会社斯库林集团佐佐木光敏获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社斯库林集团申请的专利基板处理方法以及基板处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114242614B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111059078.7，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权基板处理方法以及基板处理装置是由佐佐木光敏;高桥朋宏;佐藤昌治;杉冈真治设计研发完成，并于2021-09-09向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理方法以及基板处理装置在说明书摘要公布了：本发明提供一种能够将基板加工成更复杂的形状的基板处理方法以及基板处理装置。基板处理方法是将具有交替层叠的氧化膜Ma和氮化膜Mb的基板W，在处理槽3中用含磷酸的蚀刻液E蚀刻的方法。在第一处理工序步骤S2中，控制参数以使与蚀刻液E中的磷酸的浓度相对应的物理量成为第一目标值。在第二处理工序步骤S4中，控制参数以使与蚀刻液E中的磷酸的浓度相对应的物理量成为比第一目标值低的第二目标值。参数是使与蚀刻液E中的磷酸的浓度相对应的物理量变动的参数。第二目标值表示与第一目标值相比，氮化膜Mb的蚀刻速度更大且氧化膜Ma的蚀刻速度更小的值。
本发明授权基板处理方法以及基板处理装置在权利要求书中公布了：1.一种基板处理方法，将具有交替层叠的氧化膜和氮化膜的基板，在处理槽中用含磷酸的蚀刻液蚀刻，其中， 包含： 第一处理工序，控制使与所述蚀刻液中的所述磷酸的浓度相对应的物理量变动的参数，以使所述物理量成为第一目标值；以及 第二处理工序，控制所述参数以使所述物理量成为比所述第一目标值低的第二目标值， 所述第二目标值表示与所述第一目标值相比，所述氮化膜的蚀刻速度更大且所述氧化膜的蚀刻速度更小的所述物理量的目标值， 在所述第二处理工序中，控制比重值变化期间的长度，所述比重值变化期间的长度表示所述物理量由所述第一目标值变化为所述第二目标值为止的期间的长度，通过控制比重值变化期间的长度，控制所述氧化膜的形状。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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