西安北方华创微电子装备有限公司;北京北方华创微电子装备有限公司张迪获国家专利权
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龙图腾网获悉西安北方华创微电子装备有限公司;北京北方华创微电子装备有限公司申请的专利一种工艺任务执行方法和一种半导体工艺设备获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114420590B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111594529.7,技术领域涉及:H01L21/67;该发明授权一种工艺任务执行方法和一种半导体工艺设备是由张迪设计研发完成,并于2021-12-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种工艺任务执行方法和一种半导体工艺设备在说明书摘要公布了:本发明实施例提供了一种工艺任务执行方法和一种半导体工艺设备,所述方法包括:启动所述工艺任务,并将所述工艺任务中具有相同工艺腔室传输路径的晶圆划分为一个子任务;当启动所述工艺任务的子任务时,根据所述工艺腔室在所述工艺任务的子任务的传输路径中的传输顺序,分别确定所述工艺腔室的类型;根据所述工艺腔室的类型对所述工艺腔室进行功能配置,以执行所述工艺任务的子任务;执行所有的所述工艺任务的子任务,以执行完成所述工艺任务。根据本发明实施例,实时解析晶圆的传输路径确定腔室类型,灵活根据腔室类型进行腔室功能配置,无需人工反复修改配置项,节省了人工维护成本,提高腔室配置灵活性。
本发明授权一种工艺任务执行方法和一种半导体工艺设备在权利要求书中公布了:1.一种工艺任务执行方法,其特征在于,应用于半导体工艺设备,所述半导体工艺设备包括用于对晶圆进行工艺任务的工艺腔室,所述方法包括: 启动所述工艺任务,并将所述工艺任务中具有相同工艺腔室传输路径的晶圆划分为一个子任务; 当启动所述工艺任务的子任务时,根据所述工艺腔室在所述工艺任务的子任务的传输路径中的传输顺序,分别确定所述工艺腔室的类型; 根据所述工艺腔室的类型对所述工艺腔室进行功能配置,以执行所述工艺任务的子任务; 执行所有的所述工艺任务的子任务,以执行完成所述工艺任务; 其中,所述工艺腔室的类型包括第一工艺腔室和第二工艺腔室,所述根据所述工艺腔室在所述工艺任务的子任务的传输路径中的传输顺序,分别确定所述工艺腔室的类型,包括: 若所述工艺腔室为在所述工艺任务的子任务的传输路径中,所需经过的首个工艺腔室,则确定所述工艺腔室的类型为第一工艺腔室; 若所述工艺腔室为在所述工艺任务的子任务的传输路径中,所需经过的除首个工艺腔室之外的其它工艺腔室,则确定所述工艺腔室的类型为第二工艺腔室。
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