东京毅力科创株式会社中岛常长获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基片清洗装置和基片清洗方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114631174B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080073660.6，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权基片清洗装置和基片清洗方法是由中岛常长;饱本正巳设计研发完成，并于2020-10-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本基片清洗装置和基片清洗方法在说明书摘要公布了：本发明能够防止从基片除去的颗粒再次附着于基片。本发明的基片清洗装置包括：保持基片的基片保持部；对基片保持部上的基片喷射清洗气体的气体喷嘴；和以包围气体喷嘴的方式设置的喷嘴罩。从气体喷嘴对喷嘴罩的减压室内喷射清洗气体，在减压室内生成除去基片上的颗粒的气体团簇。在基片保持部的保持部支承件将气帘用气体向喷嘴罩侧喷射，在喷嘴罩与保持部支承件之间形成气帘。
本发明授权基片清洗装置和基片清洗方法在权利要求书中公布了：1.一种基片清洗装置，其特征在于，包括： 保持基片的基片保持部； 喷嘴罩，具有在其与所述基片之间形成减压气氛的减压室；和 气体喷嘴，其喷射比所述减压室的压力高的高压的清洗气体，在所述减压室内生成清洗所述基片的气体团簇，且能够相对于所述基片保持部在水平方向上相对移动， 所述喷嘴罩包括具有所述减压室的喷嘴罩主体和位于所述喷嘴罩主体的下端周缘的周缘部，在一边使用所述气体团簇除去所述基片上的颗粒一边所述减压室从所述基片的中心移动至周缘的期间，所述喷嘴罩覆盖所述基片的整个区域，由此，防止从所述基片被清洗而排出的颗粒向所述喷嘴罩的外侧飞散， 在所述基片保持部侧设置有对所述周缘部喷出气帘用气体而形成气帘的气帘形成部。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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