中微半导体设备(上海)股份有限公司王许获国家专利权
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龙图腾网获悉中微半导体设备(上海)股份有限公司申请的专利等离子体处理设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223665407U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-12发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202423135658.1，技术领域涉及：H01J37/32；该实用新型等离子体处理设备是由王许;朱永成;李琳;王智昊设计研发完成，并于2024-12-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本等离子体处理设备在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种等离子体处理设备，包括：真空反应腔，所述真空反应腔具有侧壁；内衬，由导电材料制成；所述内衬为具有竖直面的环形，设置在所述侧壁的内侧；通电线圈，所述通电线圈位于所述内衬的竖直面和侧壁之间；其中，所述通电线圈环绕所述内衬的竖直面，且该通电线圈与所述内衬的竖直面之间具有间隙；本实用新型的技术方案中设置通电线圈使内衬通过感应发热而升温，从而提高了内衬的温度均匀性，并且该方案无需额外设置热传导增强材料，避免了热传导增强材料对反应腔的污染。
本实用新型等离子体处理设备在权利要求书中公布了：1.一种等离子体处理设备，其特征在于，包括： 真空反应腔，所述真空反应腔具有侧壁； 内衬，由导电材料制成；所述内衬为具有竖直面的环形，设置在所述侧壁的内侧； 通电线圈，所述通电线圈位于所述内衬的竖直面和侧壁之间； 其中，所述通电线圈环绕所述内衬的竖直面，且该通电线圈与所述内衬的竖直面之间具有间隙。
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