广东中图半导体科技股份有限公司李佩文获国家专利权
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龙图腾网获悉广东中图半导体科技股份有限公司申请的专利一种双层图形化蓝宝石衬底、制备方法及LED外延片获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114695602B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-12-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011590631.5，技术领域涉及：H10H20/01；该发明授权一种双层图形化蓝宝石衬底、制备方法及LED外延片是由李佩文;卢建航;康凯设计研发完成，并于2020-12-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种双层图形化蓝宝石衬底、制备方法及LED外延片在说明书摘要公布了：本发明实施例公开了一种双层图形化蓝宝石衬底、制备方法及LED外延片。该制备方法包括提供第一蓝宝石衬底和第二蓝宝石衬底；在第一蓝宝石衬底的第一表面上形成凸起微结构，在第二蓝宝石衬底的第一表面上形成凹坑微结构；对第一蓝宝石衬底和第二蓝宝石衬底的第二表面均进行O2等离子表面活化处理；利用氨水对第一蓝宝石衬底和第二蓝宝石衬底的第二表面均进行清洗，形成Al‑OH化学键；将第一蓝宝石衬底和第二蓝宝石衬底的第二表面相互贴合并进行真空热处理，以使第一蓝宝石衬底和第二蓝宝石衬底的第二表面相互键合。通过将经过不同图案化的蓝宝石衬底进行键合，有效提高光线的反射率，保证出光率的最大化的同时降低衬底厚度带来的散热问题。
本发明授权一种双层图形化蓝宝石衬底、制备方法及LED外延片在权利要求书中公布了：1.一种双层图形化蓝宝石衬底的制备方法，其特征在于，包括： 提供第一蓝宝石衬底和第二蓝宝石衬底，所述第一蓝宝石衬底和所述第二蓝宝石衬底均包括相互背离的第一表面和第二表面； 在所述第一蓝宝石衬底的第一表面上形成凸起微结构，在所述第二蓝宝石衬底的第一表面上形成凹坑微结构； 对所述第一蓝宝石衬底和所述第二蓝宝石衬底的所述第二表面进行减薄处理； 对所述第一蓝宝石衬底和所述第二蓝宝石衬底的所述第二表面均进行O2等离子表面活化处理； 利用氨水对所述第一蓝宝石衬底和所述第二蓝宝石衬底的所述第二表面均进行清洗，形成Al-OH化学键； 将所述第一蓝宝石衬底和所述第二蓝宝石衬底的第二表面相互贴合并进行真空热处理，以使所述第一蓝宝石衬底和所述第二蓝宝石衬底的第二表面相互键合。
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